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萊特萊德（上海）水處理設備有限公司
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隨著集成電路特征尺寸進入到深亞微米階段，集成電路芯片制造工藝中所要求的芯片表面的潔凈度越來越高，為了保證芯片材料表面的潔凈度，集成電路的制造工藝中存在數(shù)百道清洗工藝。了保證生產出超大規(guī)模的集成電路，除高純原材料、高純氣體、高純化學藥品外，超純水也是其中關鍵的因素之一。那么沖洗芯片用的超純水是怎樣“煉成”的呢?
傳統(tǒng)的超純水處理工藝是單級/雙級反滲透設備+混床，其缺點是需要再生，不能連續(xù)制水，不僅工作效率低，也浪費了資源。而現(xiàn)如今的超純水制取工藝多采用反滲透設備+EDI+拋光混床，無需再生化學品的再生，有效降低了運行成本。
萊特萊德超純水設備通常由多介質過濾器、活性碳過濾器、阻垢劑加藥、精密過濾器等構成預處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、EDI電除鹽系統(tǒng)、拋光混床系統(tǒng)等構成主要設備系統(tǒng)。萊特萊德超純水設備具有良好的性能比，可實現(xiàn)自動控制，*可以達到我國電子級水質標準，具有自動化程度高，過程易實現(xiàn)自動控制，產水水質穩(wěn)定等優(yōu)勢。沖洗芯片用的超純水是這樣“煉成”的：
原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→一級RO主機→一級純水箱→二級RO主機→二級純水箱→增壓泵→紫外線殺菌器→精密過濾器→EDI系統(tǒng)→TOC脫除器+脫氣膜+拋光混床→終端過濾器
萊特萊德超純水設備主要采用EDI和反滲透技術，產水可以達到18兆歐以上，出水水質*符合半電子廠的用水標準。儀器儀表采用進出水壓力表、管道式流量計、在線水質檢測、不合格水質排放系統(tǒng)及控制系統(tǒng)。設備具有結構合理簡單、連續(xù)運行、操作方便、自動化程度高、使用壽命長、自動化運行、占地面積小、出水水質高等優(yōu)勢。
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