儀器介紹：

華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐。它能在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。還能節(jié)省時間并提高實驗速度；不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求；安裝簡單，有冷卻系，安全可靠；提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)溫度控制操作。

高真空退火爐

設備優(yōu)勢：

更多應用：

樣品腔內徑≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm