儀器介紹：

華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器——高真空退火爐。它能在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱。還能節(jié)省時間并提高實驗速度；不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求；安裝簡單，有冷卻系，安全可靠；提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)新的溫度控制操作。

高真空退火爐

設備優(yōu)勢：

1、它可以勻速、階梯（升降溫）、循環(huán)沖擊、真空、氣氛等多種的加熱方式。

2、采用全新的移相觸發(fā)技術，*可實現(xiàn)控制精度波動0.5℃以內(nèi)，溫控精度之高。

3、加熱速度之快，同時它可以提供材料更多性的測試環(huán)境。

儀器試樣試驗：

更多應用：

樣品腔內(nèi)徑≥30mm；      退火爐外徑：≤100mm

1、電子材料

半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻）

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2、陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐。

3、鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理（1000°c以下）

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4、復合材料

耐熱性評價爐

無機復合材料熱循環(huán)試驗爐

5、其他

高溫拉伸壓縮試驗爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導陶瓷退火爐