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半導體硅片清洗設備芯矽科技

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更新時間：2026-08-12 10:17:20瀏覽次數(shù)：95次

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蘇州芯矽電子科技有限公司

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產品簡介

產地	國產	產品新舊	全新

芯矽科技專注半導體硅片清洗設備研發(fā)，以自主創(chuàng)新打破國外壟斷。其設備融合超聲波、兆聲波等多元技術，精準清除納米級污染物。設備兼具高精度溫控、智能化管控與綠色環(huán)保特性，化學液回收率超85%，能耗顯著降低。產品覆蓋4-12英寸晶圓全場景，已服務長江存儲等主流晶圓廠，以高性價比助力國產替代，推動產業(yè)高質量發(fā)展。

詳細介紹

芯矽科技深耕半導體清洗領域，憑借硬核技術與全場景方案，成為國產清洗設備，助力產業(yè)鏈自主可控。

技術突破，筑牢納米級清洗根基

設備融合超聲波、兆聲波與等離子體技術，高頻聲波空化效應精準剝離晶圓亞微米至納米級污染物，適配5nm及以下制程，攻克高深寬比結構清洗難題；配套定制化清洗液，靶向去污不傷表面，兼容硅片、GaN/SiC等多元材料。多槽聯(lián)動設計實現(xiàn)預清洗至烘干全流程閉環(huán)，規(guī)避二次污染，大幅提升效率。

高效可靠，兼顧性能與成本

設備搭載±0.1℃高精度溫控與可編程流量系統(tǒng)，保障工藝一致性；優(yōu)化的清洗液循環(huán)系統(tǒng)降低耗材消耗，整體能耗低于行業(yè)均值。核心部件經(jīng)耐久性測試，槽體采用耐腐蝕特種材質，可承受長時間連續(xù)作業(yè)，保障生產穩(wěn)定。

智能環(huán)保，契合可持續(xù)發(fā)展

全自動機械臂與參數(shù)動態(tài)優(yōu)化，提升管理效率；采用耐腐蝕密閉腔體與三級過濾系統(tǒng)，化學液回收率超85%，搭配無毒可降解清洗液，廢水廢氣合規(guī)處理，踐行綠色制造。

靈活定制，賦能多元場景

模塊化設計支持4-12槽靈活擴展，適配4-12英寸晶圓，覆蓋實驗室至量產全流程，可按需加裝功能模塊，滿足第三代半導體、封裝等多產業(yè)需求。產品已進入長江存儲等頭部晶圓廠，并提供全周期服務，是國產替代的可靠之選。

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