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硅片兆聲波清洗機 芯矽科技

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參   考   價: ¥ 10000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地蘇州市

聯(lián)系方式:陳經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時間:2026-01-26 14:16:25瀏覽次數(shù):179次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:162條

所在地區(qū):江蘇蘇州市

聯(lián)系人:陳經(jīng)理 (銷售)

產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品新舊 全新

硅片兆聲波清洗機是一種結合高頻聲波與化學清洗劑的半導體專用設備,通過850kHz高頻頻振效應產(chǎn)生均勻空化作用,在避免硅片損傷的前提下高效剝離表面微小顆粒(<0.1μm)12。該設備集成化學反應與機械擦洗雙重功能,適用于半導體制造中金屬離子、有機物及氧化層的去除,尤其在3D芯片結構無損清洗中表現(xiàn)突出。其工藝優(yōu)勢包括提升清洗精度、兼容復雜器件結構,現(xiàn)已成為7nm以下制程的清洗解決方案

詳細介紹

硅片兆聲波清洗機是一種在半導體制造領域至關重要的精密清洗設備,它運用高頻兆聲波技術,結合化學清洗劑的化學反應,為硅片提供高效、無損的清洗解決方案。

工作原理

該設備的核心在于其換能器系統(tǒng),能夠?qū)㈦娔苻D(zhuǎn)化為0.8-1MHz的高頻聲波能量。這些聲波在清洗液中傳播時,會驅(qū)動溶液分子形成高速流體力學層,以聲壓梯度和聲流作用沖擊硅片表面。這種物理作用力能夠強制剝離硅片表面附著的微小顆粒(小于0.2μm),同時結合化學清洗劑的溶解和絡合作用,有效去除有機物、金屬污染物及氧化物。

技術特點

與傳統(tǒng)超聲波清洗相比,兆聲波清洗避免了空化氣泡破裂對硅片表面的損傷風險,實現(xiàn)了更高精度的清潔效果。配備PLC系統(tǒng)實時調(diào)節(jié)藥液溫度、濃度等參數(shù),確保腐蝕均勻性,適配8-12英寸硅片。采用熱氮吹掃或IPA蒸干技術,實現(xiàn)快速干燥,防止氧化;同時具備廢液回收功能,降低耗材成本。

隨著半導體工藝向5nm以下演進,兆聲波清洗技術將持續(xù)優(yōu)化聲場分布與能量控制,為制程提供更可靠的清洗保障。

關鍵詞:清洗機

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