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蘇州芯矽電子科技有限公司


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石英清洗機(jī) 芯矽科技

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參   考   價: ￥ 10000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地蘇州市

聯(lián)系方式：陳經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時間：2025-07-16 13:48:46瀏覽次數(shù)：270次

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經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：162條

所在地區(qū)：江蘇蘇州市

聯(lián)系人：陳經(jīng)理 （銷售）

產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地 國產(chǎn) 產(chǎn)品新舊 全新
自動化程度 半自動    

石英清洗機(jī)是專為半導(dǎo)體、光伏及光學(xué)領(lǐng)域設(shè)計的高精度清洗設(shè)備，用于去除石英制品（如石英坩堝、晶圓載具、光學(xué)透鏡）表面的微粒污染、金屬雜質(zhì)及有機(jī)殘留。其核心工藝結(jié)合化學(xué)腐蝕（如HF/HCL溶液）、超聲波空化效應(yīng)或兆聲波震蕩，配合去離子水（DI Water）高壓噴淋，實(shí)現(xiàn)原子級潔凈度。

詳細(xì)介紹

石英清洗機(jī)是專為清潔高純度石英制品（如石英坩堝、晶圓載具、光學(xué)透鏡、半導(dǎo)體石英部件等）設(shè)計的精密設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏、光刻、激光光學(xué)等領(lǐng)域。其核心目標(biāo)是去除石英表面附著的微粒、金屬污染、氧化物及有機(jī)殘留，確保器件在高精度工藝中的可靠性與性能。

1. 工作原理

化學(xué)腐蝕：
使用*（HF）或混合酸（如HF/HCL）選擇性腐蝕石英表面，去除微米級顆粒、金屬雜質(zhì)（如Fe、Al、Ca）及原生氧化層（SiO?）。HF與石英反應(yīng)生成可溶性硅化合物（SiF?），實(shí)現(xiàn)原子級潔凈度。

物理輔助：

超聲波/兆聲波：通過高頻振動（超聲波20-40kHz或兆聲波>1MHz）產(chǎn)生空化效應(yīng)，剝離頑固顆粒并清除狹窄縫隙污染物。

高壓噴淋：去離子水（DI Water）或化學(xué)液柱沖擊表面，沖刷松散雜質(zhì)，避免二次吸附。去離子水沖洗：

最終用高純度DI Water沖洗，去除化學(xué)殘留并防止水痕污染。

2. 設(shè)備組成

清洗腔體：
采用耐腐蝕材料（如PFA、PTFE或石英玻璃），避免HF腐蝕，支持單片或批量清洗（如25片/批）。

化學(xué)配比系統(tǒng)：
自動精確調(diào)配HF、HCL及DI Water比例（如HF:HCL=1:3），并實(shí)時監(jiān)控pH與溫度（典型工藝溫度20-60℃）。

超聲/兆聲模塊：
集成多頻段超聲波或兆聲波換能器，均勻分布能量，防止局部過蝕。

干燥系統(tǒng)：
熱風(fēng)烘干或離心甩干（配合IPA涂覆防氧化），確保無水漬殘留。

廢液處理單元：
中和槽（如NaOH中和HF）與過濾系統(tǒng)，安全處理腐蝕性廢液。

3. 工藝優(yōu)勢

高潔凈度：
可清除納米級顆粒（<10nm）及金屬污染（如鈉、鉀離子濃度<1×101? cm?2），滿足半導(dǎo)體級潔凈要求。

精準(zhǔn)控制：
程序化調(diào)節(jié)清洗時間（5-15分鐘）、溫度（±1℃）與化學(xué)濃度，避免石英基底過度腐蝕。

兼容性廣：
適用于石英坩堝、光學(xué)透鏡、光刻掩膜版等多種形態(tài)制品，支持定制化夾具設(shè)計。

4. 應(yīng)用場景

半導(dǎo)體制造：
清洗石英零部件（如擴(kuò)散爐石英管、光刻機(jī)掩膜臺），避免顆粒污染導(dǎo)致芯片良率下降。

光伏行業(yè)：
去除石英坩堝內(nèi)壁的硅渣殘留，提升單晶硅生長質(zhì)量。

光學(xué)領(lǐng)域：
清潔紫外透鏡、紅外窗口等精密石英元件，保障透光率與鍍膜均勻性。

石英清洗機(jī)通過化學(xué)腐蝕與物理震蕩的協(xié)同作用，實(shí)現(xiàn)石英制品的超精密清潔，是半導(dǎo)體、光伏及光學(xué)制造中關(guān)鍵設(shè)備。其技術(shù)核心在于材料耐腐蝕性、工藝參數(shù)精準(zhǔn)控制及廢液安全處理，未來將朝著智能化（如AI工藝優(yōu)化）、綠色化（低耗酸配方）方向發(fā)展，以滿足制程對潔凈度的需求。

關(guān)鍵詞：清洗機(jī)

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