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詳細(xì)摘要： Pluto-Atmos是一種基于頻率為13.56MHz（射頻）等離子體技術(shù)的新型表面涂覆設(shè)備。是一種*的新涂層工藝，利用大氣壓等離子體設(shè)備在任何大小或形狀的樣品...

詳細(xì)摘要： Pluto-MC利用等離子體改性時(shí)，將試樣置于特定的離子處理裝置中，通過高能態(tài)的等離子轟擊試樣的表面，將能量傳遞給試樣表層的分子，使試樣發(fā)生熱蝕、交聯(lián)、降解和氧...

詳細(xì)摘要： Plasma Perform是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的系統(tǒng)配置方案，可以為用戶...