當前位置：成都紐曼和瑞微波技術有限公司>>微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備>> HMPS-2150S微波等離子體CVD設備
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更新時間：2023-11-09 10:57:45瀏覽次數(shù)：293次
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HMPS-2060SP微波等離子體(CVD)系統(tǒng)
HMPS-2120SP微波等離子體(CVD)系統(tǒng)
◆微波反應腔新型設計，功率密度大。
◆產(chǎn)品沉積速率快、沉積質(zhì)量高、沉積面積超過3inch。
◆開關型微波功率源，微波功率輸出穩(wěn)定性高。
◆適合光學、電子、工具級金剛石膜或單晶、石墨烯等的沉積，材質(zhì)表面處理、低溫氧化物的生長等。
◆性能*，安全、可靠性強、重現(xiàn)性好，操作簡便。
◆多參數(shù)實時監(jiān)測、采集與記錄，PLC屏幕控制，多重聯(lián)鎖保護與報警。
| （1） | 型號 | HMPS-2150S |
| （2） | 電源 | AC380±10% V 三相五線制 50Hz，額定輸入＜25KVA |
| （3） | 微波輸出功率 | 0.5~6kW 連續(xù)可調(diào) |
| （4） | 功率穩(wěn)定度 | ≤±1%（@滿功率） |
| （5） | 紋波 | ≤1% |
| （6） | 微波頻率 | 2450MHz±50MHz |
| （7） | 測溫方式 | 紅外300~1400℃，控制精度±5℃ |
| （8） | 極限真空度 | 6×10-6torr |
| （9） | 腔體內(nèi)工作壓力 | 7torr~250torr |
| （10） | 自動氣壓控制 | 0.1torr |
| （11） | 等離子放電區(qū)域 | Φ≥100mm |
| （12） | 均勻沉積區(qū)域 | Φ≥80mm |
| （13） | 工作氣氛 | 五路（可用戶定制） |
| （14） | 微波泄漏值 | ＜5mW/cm2 |
| （15） | 工作環(huán)境 | 溫度15~40℃，相對濕度≤60%，無腐蝕性氣體 |
| （16） | 冷卻水 | ＞46L/Min |
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