Turret 4

Turret 4是一個(gè)通用的4位可旋轉(zhuǎn)比色皿支架。Turret 4為多達(dá)四個(gè)比色皿提供從 -15 °C 到 +110 °C 的快速、精確的溫度控制。每個(gè)比色皿周圍有三個(gè)光學(xué)端口，帶有干氣吹掃功能，以限度地減少在低溫下工作時(shí)的冷凝水。每個(gè)比色皿都提供精確的步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)磁力攪拌，確保在幾乎相同的條件下研究旋轉(zhuǎn)支架中的每個(gè)樣品。

產(chǎn)品特點(diǎn)

四個(gè)比色皿位置

快速、精確的溫度控制

每個(gè)比色皿中的溫度高度均勻

每個(gè)比色皿中相同的可變磁力攪拌速度

帶有實(shí)用程序的樣品托盤被帶到前面板上

干氣吹掃

樣品溫度的探頭輸入

NIST 可溯源溫度校準(zhǔn)

參數(shù)

Turret 6

Turret 6 的每個(gè)比色皿周圍有三個(gè)光學(xué)端口，光線可以直接通過(guò)比色皿，另外還有一個(gè) 與入射光成90°的光學(xué)端口，用于光化學(xué)反應(yīng)或熒光測(cè)量。轉(zhuǎn)臺(tái)周圍的塑料罩允許在比色皿周圍進(jìn)行氣體吹掃，以排除光線或消除水分。Turret 6 在很寬的溫度范圍內(nèi)提供快速、精確的溫度控制。每個(gè)比色皿中精確的步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)磁力攪拌確保在幾乎相同的條件下研究轉(zhuǎn)塔中的每個(gè)樣品?？墒褂?App軟件或您自己編寫的程序進(jìn)行溫度控制。

產(chǎn)品特點(diǎn)

六個(gè)比色杯位置

在很寬的溫度范圍內(nèi)快速、精確地控制

NIST 可溯源溫度校準(zhǔn)

為每個(gè)比色皿提供精確的變速磁力攪拌

用于氣體吹掃的轉(zhuǎn)塔周圍的塑料護(hù)罩

輕薄的蓋子

樣品溫度的探頭輸入

參數(shù)

CD 250

CD 250 是一個(gè)獨(dú)立的樣品池，可根據(jù)需要為各種比色皿或其他樣品提供溫度控制、干氣吹掃和磁力攪拌?？捎糜诙喾N比色皿，包括方形、矩形或圓柱形的比色皿，以及其他樣品，例如小板或薄片?？梢愿鶕?jù)需要設(shè)計(jì)其他支架。熔融石英窗口可以放置在樣品或比色皿的每一側(cè)，以限度地減少對(duì)流損失。主要用于吸收譜，也可使用與入射光成90°角的附加光學(xué)端口來(lái)觀察熒光或光化學(xué)反應(yīng)。使用菜單按鈕操作 TC 1/單溫度控制器，通過(guò)可選程序 T-App 進(jìn)行控制，或編寫您自己的控制程序。

產(chǎn)品特點(diǎn)

接受各種比色皿類型

快速、精確的溫度控制

可選的擴(kuò)展溫度范圍

無(wú)應(yīng)變的熔融石英窗口

90°可選光口

變速磁力攪拌

干氣吹掃

用于安裝在光學(xué)面包板上的底座

樣品溫度的探頭輸入

NIST 可溯源溫度校準(zhǔn)

參數(shù)

Cyl 100

Cyl 100 安裝在一個(gè)簡(jiǎn)單的底座上，為 100 mm 光程圓柱形比色皿提供溫度控制。將比色皿放在支架中并擰緊蓋子，從而用溫控表面圍繞比色皿。將兩個(gè)磁力攪拌棒放在比色皿中，每個(gè)塞子下面一個(gè)。設(shè)置溫度和攪拌速度。保持比色皿內(nèi)的溫度精確、均勻。

使用 TC 1/單溫度控制器控制 Cyl 100。使用菜單按鈕或通過(guò) Quantum Northwest 提供的程序 T-App 操作 TC 1/單溫度控制器，能夠?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜的溫度曲線。

產(chǎn)品特點(diǎn)

快速、精確的珀耳帖溫度控制

在池的每一端進(jìn)行磁力攪拌

用于低溫工作的干氣吹掃

樣品溫度的探頭輸入

NIST 可溯源溫度校準(zhǔn)

參數(shù)