1 、濺射真空室:真空室為圓筒形前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，尺寸Ф450mmx400mm，全不銹鋼結(jié)構(gòu)?？蓛?nèi)烘烤到100～150℃，選用不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進(jìn)行電化學(xué)拋光鈍化處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封；手動(dòng)前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)；靶安裝在下蓋板，基片轉(zhuǎn)臺(tái)在上法蘭；

2 、磁控濺射系統(tǒng):永磁靶（其中一個(gè)可濺射磁性材料)，射頻濺射與直流濺射兼容，靶內(nèi)水冷；氣動(dòng)控制擋板組件，各靶可獨(dú)立/順次/共同工作； 500W直流電源1臺(tái)； 500W全自動(dòng)調(diào)諧射頻電源2臺(tái)， -200V直流偏壓電源1臺(tái)

3 、旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)基片臺(tái) :基片通過(guò)進(jìn)口加熱絲加熱方式，加熱溫度：室溫—800°C，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，可控可調(diào)；基片自轉(zhuǎn)由調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，0—20轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)，樣品擋板組件 1套