2026-01-14 09:46:25361
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(Φ150)1200度三溫區(qū)管式爐的詳細介紹設備用途本設備是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實
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