| 陜西瑞銓星儀器制造有限公司
主營產(chǎn)品： 微型高壓反應(yīng)釜.水熱合成反應(yīng)釜.單層玻璃反應(yīng)釜.雙層玻璃反應(yīng)釜.旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器.高速離心機(jī). |
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主營產(chǎn)品： 微型高壓反應(yīng)釜.水熱合成反應(yīng)釜.單層玻璃反應(yīng)釜.雙層玻璃反應(yīng)釜.旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器.高速離心機(jī). |
| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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開啟式真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ200)1200度管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-26 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：MXG型真空管式爐設(shè)備型號加熱規(guī)格管材及規(guī)格充氣正壓抽氣負(fù)壓溫度使用溫度功率電壓加熱元件測溫元件MXG1100-120440石英管120*1000≤0 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-24 |
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1200度微型管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ40)1200度微型管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-22 |
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臺式真空管式爐MXG1200-150 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ150)1200度管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-20 |
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雙溫區(qū)管式爐MXG1200-150II 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ200)1200度雙溫區(qū)管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-18 |
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臺式雙溫區(qū)管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ200)1200度雙溫區(qū)管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-16 |
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三溫區(qū)管式爐MXG1200-150III 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ150)1200度三溫區(qū)管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-14 |
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臺式三溫區(qū)管式爐廠家報(bào)價(jià) 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ200)1200度三溫區(qū)管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-12 |
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單人雙面垂直凈化工作臺VS-840-2 凈化工作臺/潔凈工作臺 簡單介紹：應(yīng)用范圍:凈化工作臺是開展生物技術(shù)研究和實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)設(shè)備之一，該設(shè)備廣泛應(yīng)用于生物制藥，生物化學(xué)，環(huán)境監(jiān)測及電子儀器儀表等行業(yè)，提供局部凈化的工作環(huán)境 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-10 |
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1400度開啟式管式爐/開啟式管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ60)1400度開啟式管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-10 |
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雙人單面垂直凈化工作臺 SW-CJ-2F 凈化工作臺/潔凈工作臺 簡單介紹：適用范圍：凈化工作臺是開展生物技術(shù)研究和實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)設(shè)備之一，該設(shè)備廣泛應(yīng)用于生物制藥，生物化學(xué)，環(huán)境監(jiān)測及電子儀器儀表等行業(yè)，供操作區(qū)空氣凈化用 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-08 |
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(Φ60)1400度開啟式管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ60)1400度開啟式管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-08 |
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(Φ80)1400度真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-06 |
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(Φ60)1400度真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ60)1400度管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-04 |
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(Φ60)1400度開啟式雙溫區(qū)管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ60)1400度開啟式雙溫區(qū)管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2026-01-02 |
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(Φ60)1400度開啟式三溫區(qū)真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ60)1400度開啟式三溫區(qū)管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2025-12-30 |
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(Φ60)1700度真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ60)1700度管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2025-12-28 |
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(Φ80)1700度真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ80)1700度管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2025-12-26 |
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(Φ60)1400-1700度梯度真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ60)1400-1700度梯度管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2025-12-24 |
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(Φ60)1400-1700-1400度梯度真空管式爐 燃?xì)忮仩t 簡單介紹：(Φ60)1400-1700-1400度梯度管式爐的詳細(xì)介紹設(shè)備用途本設(shè)備是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、氣氛還原燒結(jié)、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火﹑熔化﹑物質(zhì)成分測量分析而研制的專用理想設(shè)備 產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時(shí)間：2025-12-22 |
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