半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗超純水設(shè)備，超純水裝置，超純水處理設(shè)備；半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備，超純水裝置，超純水處理設(shè)備*鸞江水處理設(shè)備。

新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。我公司設(shè)計(jì)的超純水設(shè)備采用成熟、可靠、*、自動(dòng)化程度高的二級(jí)反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm。 制備半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗純水設(shè)備的工藝流程：　　

1、采用離子交換制取超純水的方式

原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床（復(fù)床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn) 　　

2、采用反滲透與離子交換設(shè)備制取超純水的方式

原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn) 　　

3、采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備制取超純水的的方式

原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)。  

超純水設(shè)備適用于半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路，電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗， 電子管生產(chǎn)，顯像管生產(chǎn)、配料用純水，顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水，液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液，硅片清洗，另有少量用于藥液配制，集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片，LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏，高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)，半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗，超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料，實(shí)驗(yàn)室和中試車間，汽車、家電表面拋光處理，光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品用純水。
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