激光化學(xué)開封機NSC IC開見證PL201配備光纖激光器,與傳統(tǒng)式固體激光器比照,激光/化學(xué)開封機它具有更低的直接成本和更長的使用期。
從鈍化到層間膜
氣體流量、真空條件、射頻匹配由系統(tǒng)自動控制。該系統(tǒng)操作簡單,只需選擇配方并按下啟動按鈕即可啟動刻蝕。
射頻發(fā)生器、真空控制系統(tǒng)和溫度控制單元已經(jīng)升級,以提高蝕刻穩(wěn)定性和可重復(fù)性。
ES403可以刻蝕高達8英寸的晶圓片,以及使用可選適配器的小型設(shè)備,如IC包。ES403提供穩(wěn)定和**的蝕刻,其高性能真空系統(tǒng)由渦輪分子泵、質(zhì)量流量控制器和蝶閥控制。
















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