復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司，2012 年創(chuàng)立于上海，為高校，企業(yè)和研究所提供臺式掃描電子顯微鏡，及與臺式掃描電鏡相關(guān)的技術(shù)支持和測試服務(wù)。復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司成立以來，一直專注顯微技術(shù)，致力于實現(xiàn)掃描電鏡平民化。飛納電鏡——復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進階培訓(xùn)，在上海、北京、廣州、成都設(shè)立了測試中心和售后服務(wù)中心，目前飛納電鏡在中國已經(jīng)擁有超過 2000 名用戶。
2017 年起，復(fù)納與荷蘭 Sioux 集團（ASML 光刻機研發(fā)供應(yīng)商）合作開發(fā)基于分析儀器的數(shù)字化應(yīng)用解決方案；2018 年，復(fù)納引入并組建以 VSParticle 納米粒子發(fā)生器、ForgeNano 原子層沉積系統(tǒng)（美國）為主要產(chǎn)品的納米部門。復(fù)納又陸續(xù)引進海外優(yōu)質(zhì)高科技設(shè)備：Technoorg Linda 離子研磨儀、DENSsolutions 原位透射樣品桿、NEOSCAN 臺式顯微 CT 到中國，旨在提高分析結(jié)果準(zhǔn)確性，提升儀器使用效率，節(jié)省人力成本。
| 產(chǎn)地 | 進口 | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
|---|---|---|---|
| 分辨率 | 優(yōu)于 8 nm | 加速電壓 | 基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV |
Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡，可用于醫(yī)用材料表面形貌分析，幫助觀察材料表面結(jié)構(gòu)、孔隙和缺陷。
Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲，電子光學(xué)放大倍數(shù)可達 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm，適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測試等應(yīng)用。
該產(chǎn)品具備大倉室樣品臺、低/中/高三種真空模式、背散射探測器，并可根據(jù)需求選配二次電子探測器和能譜探測器。具體配置和價格根據(jù)型號、功能及應(yīng)用需求確定，可通過平臺詢價/留言入口獲取選型建議，并預(yù)約試樣。
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