系統(tǒng)特點(diǎn)：

• 光學(xué)系統(tǒng)： 高光通量、單光束光學(xué)系統(tǒng)(起到雙光束作用)，大面積、雙閃耀波長的光柵單色器可提供全波長范圍內(nèi)光通量。全部使用有保護(hù)涂層、正面拋光的反射元件，同時(shí)光學(xué)元件還涂有防腐層。光路系統(tǒng)全部密封，進(jìn)一步防止灰塵和腐蝕性氣體的侵入。

• 檢測器： 用研制成功的性能的新型固體檢測器。具有光電倍增管無法相比的性能。的量子效率；無論在紫外區(qū)還是在可見區(qū)都有很高的靈敏度。不用負(fù)高壓，沒有暗電流，因而大大改善儀器的信噪比，把原子吸收儀器的性能提高到一個(gè)新的高度。

• 石墨爐： 置于主機(jī)內(nèi)的橫向加熱石墨爐原子化器(THGA)由計(jì)算機(jī)控制。石墨管被橫向加熱，因而沿著石墨管長度方向溫度均勻。石墨管的內(nèi)、外保護(hù)氣由計(jì)算機(jī)獨(dú)立控制，防止石墨管與空氣接觸被氧化，以限度提高石墨管的壽命。氣動開、關(guān)石墨爐使石墨管與石墨電極接觸更緊密，更換石墨管亦變得更容易。塞曼效應(yīng)背景校正：一個(gè)與光路平行的，不用偏振鏡的，并由計(jì)算機(jī)控制的進(jìn)行調(diào)制的O.8特斯拉的縱向磁場施加在石墨爐原子化器上。磁場只在原于化步驟時(shí)開啟。

• 的實(shí)際濕度控制： 自動監(jiān)控石墨管電阻、外界電壓、冷卻水溫度的變化，隨時(shí)進(jìn)行功率補(bǔ)償。使原子化溫度無論在什么時(shí)間內(nèi)都能保持恒定，并且延長石墨管的使用壽命。

• 石墨爐冷卻系統(tǒng)： 由主機(jī)控制啟動循環(huán)冷卻水系統(tǒng)為石墨爐提供恒定的冷卻。在運(yùn)行時(shí)水溫約為36℃，流速為2.5升／分鐘。注：無循環(huán)冷卻系統(tǒng)操作專家600型儀器時(shí)，使用的冷卻水應(yīng)滿足下列規(guī)范：無沉淀的飲用水；20-40℃；流量不小于2升／分鐘；壓力在2.5至4.5巴之間；PH值在6.5至7.5之間；硬度不超過14dh或100Ppm。

• 自動除煙裝置： 在儀器運(yùn)行時(shí)自動地轉(zhuǎn)移到石墨管的進(jìn)樣口上方以抽走在干燥和灰化步驟時(shí)產(chǎn)生的樣品煙霧。這些煙霧通過一個(gè)清洗和過濾裝置。除去有害的、有毒的和腐蝕性氣體(選購)。

• 石墨爐自動進(jìn)樣器： 安裝在石墨爐前面的標(biāo)準(zhǔn)附件?？刹鹦兜臉悠繁P帶有88個(gè)或148個(gè)樣品杯位置可供放置樣品、標(biāo)準(zhǔn)溶液和基體改進(jìn)劑使用，另有一個(gè)用于清洗進(jìn)樣器的清洗容器。最小樣品需要量為O．1ml，進(jìn)樣體積為1-99ul，增量為1ul，進(jìn)樣體積為99ul(樣品體積十試劑體積)，；沖洗體積固定為1.3mI。自動進(jìn)樣器由主機(jī)供電并由計(jì)算機(jī)控制。

• AA WinLab軟件

系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)：

• 系統(tǒng)： 專家600型是全集成的桌面式設(shè)計(jì)石墨爐法原子吸收光譜儀，將所有的光譜儀和石墨爐組成部件集成于單個(gè)儀器中。

• 光路系統(tǒng)：
  分光計(jì)：單光束光路系統(tǒng)(e到雙光束作用)。光學(xué)元件表面涂有反射層。整個(gè)光路系統(tǒng)用保護(hù)蓋進(jìn)行全封閉。
  單色器：李特涪型設(shè)計(jì)用馬達(dá)驅(qū)動對波長進(jìn)行自動選擇和找峰。波長范圍：190一870nm。全息光柵：每毫米1800條刻縫，閃耀波長236nm和597nm。光柵面積：64x 72mm。線色散率倒數(shù)：1．6nm／mm(標(biāo)稱值)。焦距：267mm。光譜通帶寬度：0．2，O．7和2．0nm，馬達(dá)狹縫驅(qū)動進(jìn)行自動狹縫選擇。
  檢測器：寬范圍的分割式固體檢測器，包括一個(gè)內(nèi)藏的低噪聲cMoS電荷放大器陣列。
  自動燈選擇：8燈燈座，帶有空心陰極燈和無極放電燈電源。通過AA WinLab軟件由計(jì)算機(jī)對燈進(jìn)行選擇和對燈位置進(jìn)行校準(zhǔn)。當(dāng)使用Perkjn EImer的Lum噸空心陰極燈時(shí)‘元素?zé)舻墓ぷ麟娏鳎ㄩL及狹縫自動設(shè)定。

• 背景校正： 縱向交流塞曼效應(yīng)校正背景，使用調(diào)制的0．8特斯拉的縱向交流磁場。磁鐵只在原于化步驟時(shí)自動通電。自動檢測反轉(zhuǎn)點(diǎn)。

• 石墨爐： 全計(jì)算機(jī)控制的橫向加熱石墨原子化器(T的GA)在整個(gè)石墨管長度方向提供均勻的溫度。包圍在石墨管四周的外保護(hù)氣流防止外邊的空氣侵入 以限度地延長石墨管壽命。內(nèi)氣流流經(jīng)石墨管內(nèi)以帶走在干燥和灰化階段已經(jīng)蒸發(fā)的基體蒸氣。這兩路氣流由計(jì)算機(jī)分別控制。氣動式開、關(guān)石墨爐使得石墨管更換變得容易。

• 程序的靈活性： 可設(shè)定多達(dá)12個(gè)步驟的分析程序。每一步可用下列參數(shù)進(jìn)行編程：
  溫度：室溫至2600℃，每步最小增量10℃
  斜坡時(shí)間：O至99秒，每步最小增量1秒
  保持時(shí)間：0至99秒，每步最小增量1秒
  內(nèi)氣流：0ml/min(停氣)，50ml／min(小氣流)，250ml／min(氣流)，可切換到另一種氣體(更換氣體)
  石墨爐打開和關(guān)閉：軟件指令，氣動執(zhí)行
  所需的內(nèi)氣：氮?dú)庾钚∪肟趬毫?00Kpa(3bar)。氣體消耗700m1／min
  冷卻水：循環(huán)冷卻水系統(tǒng)包括在AAnalyst 600中(選購件)當(dāng)不帶循環(huán)冷卻水系統(tǒng)操作AAnalyst 600時(shí)，應(yīng)使用滿足技術(shù)要求的冷卻水：無沉積物的飲用水20-40℃；流速不小于2L／Min，壓力在2．5和4．5bar之間；pH值在5．5至7．5之間，硬度不大于14dH或100ppm

• 石墨爐自動進(jìn)樣器： 裝在石墨爐的前面。帶88個(gè)或148個(gè)位置供樣品溶液和參比溶液用的可折卸的樣品盤，另有一個(gè)可溢出的容器供清洗進(jìn)樣器用。最小樣品需要量約01ml。
  進(jìn)樣體積：樣品和試劑：1-99ul，增量1ul，可進(jìn)樣量99ul(樣品體積十試劑體積)，；沖洗體積1．3ml。
  電子線路：自動進(jìn)樣器由光譜儀供電并由軟件控制。

• 數(shù)據(jù)控制系統(tǒng)： 全部由計(jì)算機(jī)AA WinLab軟件控制，提供對于儀器主機(jī)及其重要附件以及數(shù)據(jù)處理和儲存的控制。
  數(shù)據(jù)處理：儀器讀數(shù)以吸光度(-0.500A至+2.000A)、濃度和發(fā)射強(qiáng)度表示，讀數(shù)擴(kuò)展范圍從O.01至100倍。操作者可選的積分時(shí)間從0．1秒至60秒，最小增量01秒。讀數(shù)方式包括時(shí)間平均積分，非平均積分(峰面積)，和峰高測量。多達(dá)15上標(biāo)準(zhǔn)和多種校準(zhǔn)方程。操作者可選定一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行重校斜率。主機(jī)內(nèi)置lEEE4B8接口可與計(jì)算機(jī)和選購的附件聯(lián)接。
  計(jì)算機(jī)配置：IBM兼容計(jì)算機(jī)。Intel Pentium處理器，主頻166或更高；32M內(nèi)存或以上；1個(gè)串行接口、1個(gè)并行〔雙向)接口；1GB自由硬盤空間；3．5英寸軟盤驅(qū)動器、CD-ROM驅(qū)動器；SVGA圖形卡及兼容顯示器；鼠標(biāo)及鍵盤；MS WindoWs NT操作系統(tǒng)；激光打印機(jī)。

• 尺寸和重量： 11ocm長x 65cm高x 70cm寬 (帶石墨爐自動進(jìn)樣器時(shí)104cm寬) 重175Kg (不算控制系統(tǒng)和冷卻水系統(tǒng))

• 所需電源： 230V(+5％／-10％)，50／60HZ；5000VA
  電器防護(hù)：同EN61010-1-1993(IECl010-1)規(guī)定絕緣等級Ⅰ；絕緣分類(過壓分類)Ⅱ,污染程度2。

• 冷卻系統(tǒng)： 帶風(fēng)扇輔助熱交換器的自啟動循環(huán)系統(tǒng)(AAnalyst 800作為標(biāo)準(zhǔn)附件，AAnalyst 700作為選購系統(tǒng))用于給石墨爐提供恒定的冷卻。在儀器操作時(shí)水溫約36℃，水流25L／min。