納米粉體高剪切研磨分散機(jī)

納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率不ke缺少，而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于納米粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致納米粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面，在復(fù)合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料，是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。

所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個(gè)目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散，盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時(shí)需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對(duì)粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。

目前對(duì)于納米粉體的分散，一般采用以下幾種設(shè)備：

一、超聲分散機(jī)，超聲方式分散，對(duì)于小批量的物料還行，但無法放大生產(chǎn)。
二、機(jī)械攪拌分散機(jī)，這種在工業(yè)化分散中比較常見，但是由于自身的結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速低，分散有死角，導(dǎo)致*終分散效果差，并且分散的效率很低。
三、混合分散機(jī)，這種分散機(jī)適合高粘度的物料的分散，電機(jī)功率大，但是也存在和機(jī)械攪拌分散機(jī)一樣的問題，分散效率低，效果差。

隨著納米粉體分散的進(jìn)一步發(fā)展，SID研發(fā)出的分散設(shè)備-研磨分散機(jī)。結(jié)構(gòu)為膠體磨頭+分散頭定轉(zhuǎn)子，先研磨打開團(tuán)聚體，在瞬時(shí)通過分散工作組進(jìn)行分散，分散效率快，分散效果好。

SID研磨分散機(jī)在納米粉體的分散中有著突出的應(yīng)用和優(yōu)勢(shì)，如納米氫氧化鎂、納米氫氧化鋁、石墨烯、碳納米管、二氧化硅、納米樹脂、納米涂料、醫(yī)藥納米混懸液等都有著成功的經(jīng)驗(yàn)和案例。

SID研磨分散機(jī)的研發(fā)初衷就是為了解決納米物料分散，解決粉體分散到液體中，二次團(tuán)聚的問題。GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三層高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三層變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 

納米粉體高剪切研磨分散機(jī)設(shè)備參數(shù)表：