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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)產(chǎn)品參數(shù)
| 變速方式 | 變頻變速 | 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 |
| 產(chǎn)品大小 | 中型 | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
| 分散機(jī)類型 | 實(shí)驗(yàn)室分散機(jī),高速分散機(jī),乳化分散機(jī) | 分散輪直徑 | 55mm |
| 分散盤型式 | 平盤鋸齒式 | 結(jié)構(gòu)類型 | 立式 |
| 每次處理量 | 0-300 | 升降形式 | 其他 |
| 速度范圍 | 其他 | 速度類別 | 無級(jí)變速 |
| 物料類型 | 液-液,固-液 | 自動(dòng)化程度 | 全自動(dòng) |
高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)詳細(xì)信息
高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)
隨著產(chǎn)業(yè)化升級(jí)及高新技術(shù)功能材料市場(chǎng)的需求和發(fā)展,研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細(xì)氧化鎂產(chǎn)品,主要用于高級(jí)潤(rùn)滑油、高級(jí)鞣革提堿級(jí)、食品級(jí)、醫(yī)藥級(jí)、硅鋼級(jí)、高級(jí)電磁級(jí)、高純氧化鎂等近十個(gè)品種組成。
SID德國(guó)納米醫(yī)用級(jí)氧化鎂研磨分散機(jī)在分散氧化鎂時(shí)通過14000rpm超高的轉(zhuǎn)速形成的chao強(qiáng)剪切力使物料在0.2-0.3mm極細(xì)的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬次的撞擊、破碎、撕裂,將原本抱團(tuán)的納米級(jí)氧化鎂進(jìn)一步的破碎,打開團(tuán)塊形成納米級(jí)顆粒狀,為防止被打碎的納米級(jí)氧化鎂顆粒再次抱團(tuán),我們?cè)谘?磨后又加了一級(jí)分散均質(zhì)盤,對(duì)物料進(jìn)行che底的分散,阻止物料再進(jìn)行二次抱團(tuán)。氧化鎂分散的越細(xì)越均一,對(duì)于后期做應(yīng)用性能就越好!

影響納米材料分散要素:
1、分散介質(zhì)
(1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
2、分散劑
(1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。
(2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。
(3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。
3、分散設(shè)備
SID機(jī)械設(shè)備有限公司專門應(yīng)對(duì)納米材料分散開發(fā)的高剪切三級(jí)分散機(jī)GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。

納米研磨分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。
當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級(jí)時(shí),甚至納米級(jí)時(shí),體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散均質(zhì),經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機(jī)的循環(huán)往復(fù),最終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
高新精細(xì)納米研磨分散機(jī)設(shè)備選型表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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