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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>原料藥機(jī)械及設(shè)備>混合設(shè)備>分散機(jī)>GMSD2000 高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)

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參考價(jià) ¥ 100000
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

型號(hào)

GMSD2000

訪問(wèn)次數(shù)

628

產(chǎn)地

江蘇蘇州市

更新時(shí)間

2026/9/27 19:03:50

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)產(chǎn)品參數(shù)

變速方式 變頻變速 產(chǎn)地 進(jìn)口
產(chǎn)品大小 中型 產(chǎn)品新舊 全新
分散機(jī)類(lèi)型 高速分散機(jī),剪切分散機(jī),乳化分散機(jī) 分散輪直徑 55mm
分散盤(pán)型式 平盤(pán)鋸齒式 結(jié)構(gòu)類(lèi)型 立式
每次處理量 300 L/H 見(jiàn)選型表 升降形式 其他
速度范圍 其他 速度類(lèi)別 無(wú)級(jí)變速
物料類(lèi)型 液-液,固-液 自動(dòng)化程度 全自動(dòng)
展開(kāi)更多
高純氧化鋁粉研磨分散機(jī),是針對(duì)高純氧化鋁粉易團(tuán)聚、需精準(zhǔn)控制粒徑的特性設(shè)計(jì)的專(zhuān)用設(shè)備。它通過(guò)研磨腔的剪切、研磨力破除團(tuán)聚體,同時(shí)實(shí)現(xiàn)均勻分散,能精準(zhǔn)把控粒徑分布,避免雜質(zhì)引入以保障純度。廣泛用于陶瓷、電子材料等領(lǐng)域,為下游產(chǎn)品性能穩(wěn)定提供關(guān)鍵支撐。

高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)詳細(xì)信息

高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)


高純氧化鋁的應(yīng)用:

一般3N高純氧化鋁主要應(yīng)用于先進(jìn)陶瓷,4N主要應(yīng)用于熒光粉,5N應(yīng)用于藍(lán)寶石晶體、鋰電池隔膜、高級(jí)陶瓷等

gao端:應(yīng)用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對(duì)純度、粒徑、形貌等有嚴(yán)格要求,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。

中端:應(yīng)用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈,藍(lán)寶石襯底,對(duì)純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩(wěn)定性的要求較為嚴(yán)格,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。

低端:集成電路基板、消費(fèi)電子,紫外固化涂料等方面的應(yīng)用,需要使用4N級(jí)別左右的高純超細(xì)氧化鋁,整體要求相對(duì)較低。

國(guó)內(nèi)眾多生產(chǎn)高純氧化鋁的企業(yè)名義產(chǎn)能都在千噸數(shù)量級(jí),實(shí)際上大多數(shù)集中在熒光粉等低端市場(chǎng)。

但國(guó)內(nèi)部分企業(yè)純度已經(jīng)達(dá)4N5以上在純度上與國(guó)外企業(yè)沒(méi)有差別,國(guó)內(nèi)市場(chǎng)未來(lái)幾年對(duì)高純氧化鋁尤其是gao端高純氧化鋁的市場(chǎng)需求量將大幅增加,因此未來(lái)幾年是高純氧化鋁生產(chǎn)企業(yè)發(fā)展的時(shí)機(jī),而產(chǎn)品的技術(shù)含量和品質(zhì)將成為各企業(yè)進(jìn)行市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的有利wu器。

高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)


SID生產(chǎn)型高速研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國(guó)產(chǎn)生產(chǎn)型研磨機(jī)的4-5倍,通過(guò)超高的線速度可以使物料在研磨與分散這二級(jí)腔體內(nèi)進(jìn)行高強(qiáng)度的處理,經(jīng)廣州某大型企業(yè)檢測(cè),當(dāng)SID管線式高速研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速開(kāi)至12000rpm,打一遍可以使領(lǐng)物料粉碎率達(dá)到90%,粒徑90%小于10微米。

研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。在膠體磨的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(pán)。

有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷

研磨分散在結(jié)構(gòu)上的優(yōu)勢(shì):

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供chao強(qiáng)切割力,纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.

更可靠 采用整體式機(jī)械密封,程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題,安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國(guó)際xian進(jìn)的受控切割技術(shù),將纖維類(lèi)物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿(mǎn)足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

設(shè)備核心參數(shù):

設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)

高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)設(shè)備型號(hào)參數(shù)表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類(lèi)型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。





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