一、產(chǎn)品概述 1、適用：大專(zhuān)院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。 2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途： ?設(shè)備一體化設(shè)計(jì)，占地面積小，性?xún)r(jià)比高，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低； ?適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機(jī)膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等； ?適用于制備光學(xué)薄膜、導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜等。

名稱(chēng)：高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)
型號(hào)：TEMD600
品牌：泰科諾
產(chǎn)地：北京

一、產(chǎn)品概述

1、適用：大專(zhuān)院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。

2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途：

?設(shè)備一體化設(shè)計(jì)，占地面積小，性?xún)r(jià)比高，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；

?適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、有機(jī)膜，也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等；

?適用于制備光學(xué)薄膜、導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜等。

型號(hào)	TEMD600
真空腔室結(jié)構(gòu)	立式圓柱形側(cè)開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)
真空腔室尺寸	Φ600×H750mm
加熱溫度	室溫～300℃
旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)	平板型Φ350mm，或球罩型基片臺(tái)可選
膜厚不均勻性	≤±5.0%
考夫曼離子源	可選
蒸發(fā)源	電子槍8KW 6穴坩堝 國(guó)產(chǎn)進(jìn)口可選，配2-3組電阻蒸發(fā)
控制方式	PLC+觸摸屏人機(jī)界面半自動(dòng)控制系統(tǒng)
占地面積	長(zhǎng)×寬：L2500×W1600mm
總功率	≥17KW