具有高真空、低真空和ESEM™環(huán)境真空三種真空模式,適合分析泛的樣品范圍,從傳 統(tǒng)的金屬材料、斷口和拋光斷面,到不導(dǎo)電的軟物質(zhì)。電鏡還可作為一個(gè)微觀實(shí)驗(yàn) 室。安裝特 殊的原位樣品臺后,在從-165°C到1500°C溫度范圍內(nèi),對多種樣品保持其原 始狀態(tài)下進(jìn)行動態(tài) 原位分析。
二次電子:
高真空模式 3.0nm @ 30kV, 8nm @ 3kV
高真空減速模式 7nm @ 3kV (可選項(xiàng))
低真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV
環(huán)境真空模式 3.0nm @ 30kV
背散射電子 4.0nm @ 30kV
2.樣品室壓力達(dá)2600Pa
3.加速電壓200V ~ 30kV,連續(xù)調(diào)節(jié)
4.樣品臺移動范圍
Quanta 250: X=Y=50mm
Quanta 450: X=Y=100mm
Quanta 650: X=Y=150mm


















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