原料氣氧濃度:<>
原料氣壓力:0.3MPa~0.7MPa
殘余物指標(biāo):
氧含量:≤1ppm
氫含量≤1000ppm(氫氣純化項目除外)
含塵粒徑:≤0.01μm
常壓露點:≤-60℃
氫氣和少于2%氧含量的普氮混合后進(jìn)入純化裝置除氧器,過量的氫和少量的氧在鈀觸媒催化劑的作用下充分反應(yīng)生成水(2H2+O2=2H2O),殘余氧含量降到5ppm以下;
脫氧后氮氣經(jīng)冷卻器與冷干機(jī)的初步脫水后進(jìn)入干燥器,內(nèi)裝分子篩的干燥器配置兩臺,其中一臺進(jìn)行吸附干燥,另一臺則通過高溫將已經(jīng)吸附飽和的干燥器進(jìn)行再生備用,最終氮氣常壓露點可低于-60℃;
純化后的氣體經(jīng)純氮罐后輸送至用氣點。
氫氣與氮氣同時進(jìn)入混合罐進(jìn)行充分混合,使氮氣中的氧與氫充分接觸,在進(jìn)入裝填鈀催化劑的除氧器后,氧氫充分反應(yīng)生成水,從而將氧除去。裝置對除氧器的工作時設(shè)置低溫報警,低壓報警,并對最終的氮氣純度設(shè)置純度報警,從而對系統(tǒng)進(jìn)行安全有效的監(jiān)控。
適用范圍
特別適用于氮、氫氣氛熱處理行業(yè),即需要高純氮氣和允許適量的氫,能使產(chǎn)品更光亮。


















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