原料氣氧濃度：<>

原料氮?dú)鈮毫Γ?.2MPa～0.7MPa

殘余物指標(biāo):

氧含量：≤10ppm

CO2含量：≤100ppm

含塵粒徑：≤0.01μm

常壓露點(diǎn)：≤-60℃

少于0.1%氧含量的普氮進(jìn)入純化裝置除氧器，氧在高溫下與碳載型脫氧劑中的碳充分發(fā)生反應(yīng)生成二氧化碳（C+O2=CO2），殘余氧含量可達(dá)到10ppm以下；

脫氧后的氮?dú)饨?jīng)冷卻器降溫后進(jìn)入干燥器，二氧化碳和殘余水分在干燥器中被深度脫除，內(nèi)裝分子篩的干燥器配置兩臺(tái)，其中一臺(tái)進(jìn)行吸附干燥，另一臺(tái)則通過(guò)高溫將已經(jīng)吸附飽和的干燥器進(jìn)行再生備用，最終氮?dú)獬郝饵c(diǎn)可低于-60℃；

純化后的氣體經(jīng)純氮罐后被輸送至用氣點(diǎn)。

普氮進(jìn)入純化裝置的除氧器，除氧器設(shè)置兩個(gè)，內(nèi)裝碳載型脫氧劑。氧在300℃-350℃與碳反應(yīng)生成二氧化碳,從而將氮?dú)庵械难鯕獬? 除氧器一個(gè)作為備用，另一個(gè)工作，工作時(shí)間約為一個(gè)月；而后氣體中的二氧化碳和水被干燥器中的分子篩吸附，干燥器在常溫下工作，在加熱下再生，最后的氮?dú)庵须s質(zhì)僅含有少于1ppm的氧和二氧化碳，含水量小于10ppm。裝置對(duì)除氧器的工作時(shí)設(shè)置低溫報(bào)警，低壓報(bào)警，并對(duì)最終的氮?dú)饧兌仍O(shè)置純度報(bào)警，從而對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行安全有效的監(jiān)控。

適用范圍

適用于對(duì)氧、氫含量有嚴(yán)格要求的工藝。