電子超純水設備概述

超純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一。超純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產中的重要作用日益突出。半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚒?br> 

超純水設備

電子工業(yè)用超純水的應用領域

1)半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

2)超純材料和超純化學試劑。

3)實驗室和中試車間。

4)汽車、家電表面拋光處理。

5)光電產品。

6)其他高科技精微產品。
                                                                

電子工業(yè)用超純水設備

制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程

電子行業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下幾種：

方案一：

預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15 MΩ?cm)

方案二：

預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節(jié))-中間水箱-二級反滲透-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17 MΩ?cm)

方案三：

預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18 MΩ?cm)

在電子光學超純水設備設計上，通常采用成熟、可靠、、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝;或者是全膜法處理工藝：UF+二級RO+EDI+拋光混床。確保處理后出水電阻率達到18 MΩ?cm以上。

為獲得電子光學行業(yè)用電導率0.055μS/cm(電阻率18.2MΩ?cm)的理論超純水，在普通EDI超純水設備后，通常還裝設拋光混床進行最終的精處理。這種拋光混床用樹脂是相對密度很接近的陰樹脂和陽樹脂的混合物，由于無法將這種樹脂的陰、陽樹脂分離，不能用酸堿將它們分別再生，所以這種拋光樹脂失效后，棄之不用。拋光混床又稱一次性混床，一般情況用在工藝末端，用來更進一步提高產水水質。拋光混床的樹脂是不能再生重復使用的。一般出水水質都能達到18兆歐以上，以及TOC、SiO2都有一定的控制能力。