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化學氣相沉積爐(CVD系統(tǒng))

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱上海皓越電爐技術有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/3/11 20:47:04
  • 訪問次數(shù)489
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上海皓越電爐技術有限公司(簡稱皓越科技)是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售電爐為一體的企業(yè)。公司地處中國經(jīng)濟發(fā)達上海,已擁有大型現(xiàn)代化標準廠房,成套的加工設備,*的質(zhì)量檢測體系;匯萃了一批長期從事熱處理爐、真空爐及特種爐制造和服務的技術精英,其中,研究生、本科以上學歷的工程技術人員26人,技術工人65余人的精英團隊,具備年產(chǎn)200套熱處理爐、60套大型真空爐的生產(chǎn)能力。并與上海復旦大學、上海同濟大學建立了長期友好的科技合作與人才培養(yǎng)基地。公司一直專注于半導體材料、碳材料、陶瓷及復合材料和鋰電材料四大領域,積累了豐富的行業(yè)經(jīng)驗和技術,竭誠服務于客戶,提供*的一體式產(chǎn)業(yè)解決方案。在半導體材料領域,皓越科技致力為客戶提供晶體生長設備和高溫退火設備,適用于藍寶石、碳化硅、氮化鎵和氮化鋁晶體的生長和退火。還推出氧化/擴散爐、LPCVD/PECVD等薄膜生長摻雜設備以及晶圓快速熱處理RTP設備。在碳材料領域,皓越科技擁有提供石墨烯、碳納.米管的CVD及PECVD成套生長系統(tǒng),并提供金剛石工具生產(chǎn)用真空爐和熱壓爐,以及碳材料用高溫石墨化爐等。在鋰電材料領域,我們?yōu)榭蛻籼峁┻B續(xù)正極材料生產(chǎn)窯爐,有輥道窯、推板窯等,以及用于負極材料生產(chǎn)用真空爐等。在陶瓷基復合材料領域,擁有碳化硅陶瓷的無壓燒結(jié)、反應燒結(jié)和重結(jié)晶燒結(jié)設備,氮化硅粉體合成爐以及陶瓷制品燒結(jié)爐,碳化硼陶瓷熱壓燒結(jié)爐等。上海皓越電爐技術有限公司所提供的產(chǎn)品技術,質(zhì)量可靠,品種齊全。公司成立以來在市場上巳獲得用戶認可,其產(chǎn)品質(zhì)量及服務獲得用戶的肯定,我們的優(yōu)勢不僅體現(xiàn)在高精度的溫度控制領域,更多的是我們在工藝、真空,自動化控制及計算機溫度分析系統(tǒng)有杰出的人才。皓越人的愿景:成為新材料、新能源熱處理領域。皓越人的使命:推動新材料、新能源領域的快速發(fā)展;為新材料、新能源行業(yè)提供熱處理解決方案。皓越人的價值觀:客戶為天:一切技術創(chuàng)新和服務理念均以客戶的需求為導向,我們堅持以客戶為主要,持續(xù)為客戶創(chuàng)造價值,積極、快速的響應客戶需求。為客戶提供服務,是我們的工作方向和價值*,成就客戶就是成就我們自己。誠信為本:只有堅持誠信為本,才能言出必行,信守承諾。誠信是我們很重要的無形資產(chǎn),皓越人堅持以誠信贏得客戶。創(chuàng)新為先:為了更好的滿足客戶需求,我們需要積極進取、勇于開拓與創(chuàng)新。任何的技術、產(chǎn)品、解決方案只有轉(zhuǎn)化為商業(yè)成功才能產(chǎn)生價值。我們堅持以客戶需求為導向,并圍繞客戶需求持續(xù)創(chuàng)新。合作為贏:為了實現(xiàn)客戶需求,除了持續(xù)創(chuàng)新,我們還要與供應商、合作商密切合作,只有合作才能實現(xiàn)雙贏,合作是提升流程效率的有力保障。發(fā)展為道:一切努力與奮斗,為了發(fā)展,我們成就了客戶,自身也在發(fā)展。發(fā)展是硬道理,只有持續(xù)發(fā)展,我們與客戶才能攜手進步,員工與企業(yè)才能實現(xiàn)夢想。皓越人的行為準則:三大作風:認真,快,堅守承諾;一個目標:客戶滿意100;一個保證:保證完成任務。皓越選人用人理念:用對人,做對事!得人才者得天下!一切競爭,歸根結(jié)底是人才競爭。選人用人,關乎皓越的成?。话押线m的人放在合適的崗位上。
電阻爐
簡要描述:這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐,多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設計生產(chǎn)(有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)),可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術,具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。
化學氣相沉積爐(CVD系統(tǒng)) 產(chǎn)品信息
品牌HAOYUE/皓越升溫速度(達到溫)10℃min
加熱方式電阻絲控溫精度±1℃
溫度1200℃價格區(qū)間5萬-10萬
儀器種類管式爐產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域化工,地礦,能源,電子,冶金

一、產(chǎn)品應用

  高真空CVD系統(tǒng)是一款專業(yè)在沉底材料上生長高質(zhì)量石墨烯、碳納米管、碳化硅的設備,廣泛應用于在半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域。

二、產(chǎn)品特點

  高真空CVD系統(tǒng)主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統(tǒng)、分子泵機組、自動化控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等組成。

1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;

2、生長腔體采用進口高純石英管,配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環(huán)境;

3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維,不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優(yōu)質(zhì)摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲,溫場均勻,能耗低;

4、密封法蘭均采用不銹鋼材質(zhì),配水冷套,可連續(xù)長時間工作;

5、氣路系統(tǒng)采用兩路質(zhì)量流量計(可拓展多路),配預混系統(tǒng);

6、氣體種類: He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6;

7、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制,通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數(shù),自動保存實驗參數(shù),也可采用手動控制;

8、系統(tǒng)采用集成化設計,控制系統(tǒng)、混氣罐、質(zhì)量流量計等均內(nèi)置在箱體內(nèi)部,占地面積小。整體安裝四個可移動輪子,方便整體移動。

三、技術參數(shù) 

型號

HTF1200-2.5/20-2F-LV

HTF1200-5/20-4F-HV

HTF1200-6/40-2M-LV 

HTF1200-8/40-4M-HV 

設計溫度(℃)

1200 

1200 

1200 

1200 

控溫精度(℃)

±1 

±1  

±1  

 ±1 

 加熱區(qū)直徑(mm)

25 

50 

60 

80 

 加熱區(qū)長度(mm)

200 

200 

400 

400 

 加熱管長度(mm)

450 

450 

1000 

1000 

 恒溫區(qū)長度(mm)

80 

80 

150 

150 

額定電壓(V)

220 

220 

220 

220 

額定功率(KVA)

1.2 

1.2 

3 

3 

真空機組

HTF-101 

HTF-103 

HTF-101 

HTF-103 

供氣系統(tǒng)

HTF-2F 

HTF-4F 

HTF-2M 

HTF-4M 



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