標(biāo)樂(lè)金相VibroMet™2振動(dòng)拋光機(jī) 金相制樣設(shè)備可快速去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層，從而得到無(wú)應(yīng)力的制備表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危險(xiǎn)電解液。結(jié)合VibroMet™ 2與MasterMet™ 2二氧化硅拋光液對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光， 可適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）。不同于傳統(tǒng)的振動(dòng)拋光機(jī)，VibroMet™2振動(dòng)拋光機(jī) 金相制樣設(shè)備可以產(chǎn)......

標(biāo)樂(lè)金相VibroMet™2振動(dòng)拋光機(jī) 金相制樣設(shè)備

快速去除樣品表面變形層

水平運(yùn)動(dòng)溫和地拋光樣品不引起機(jī)械應(yīng)力

 所得樣品表面適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）

 對(duì)混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到上乘的制備效果

 標(biāo)樂(lè)金相VibroMet™2振動(dòng)拋光機(jī) 金相制樣設(shè)備

無(wú)需使用危險(xiǎn)電解液

替換電解拋光儀和危險(xiǎn)電解液

 結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液，MicroCloth 拋光布對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光

 設(shè)定后無(wú)需過(guò)多留心

樣品在拋光盤(pán)中可自動(dòng)開(kāi)始振動(dòng)拋光

 12in [305 mm]直徑拋光盤(pán)可同時(shí)制備多達(dá)18個(gè)樣品

標(biāo)樂(lè)金相VibroMet™2振動(dòng)拋光機(jī) 金相制樣設(shè)備

 ? 振動(dòng)拋光機(jī)用于在機(jī)械制備后去除剩余的輕微變形，以顯現(xiàn)無(wú)應(yīng)力的表面，而不必使用電解拋光所需的危險(xiǎn)的電解液

? 將VibroMet 2 和MasterMet™ 2 膠體二氧化硅配合使用，進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光的試樣表面可滿足電子背散射衍射（EBSD）或原子

力顯微鏡(AFM) 分析

 ? 和*終拋光液配合使用(pg.69-70)

 ? 磨盤(pán)尺寸為12in [305mm]