EDI超純水設備又稱電去離子設備，一般用于電子光學行業(yè)生產用水，如半導體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路等生產用水需求． 
奧克恩環(huán)保服務內容：
  包括設備工藝設計、系統制造、安裝、現場安裝、系統試裝調整、設備保修、及售后服務等。 
設計參考標準：
    1）建設方提供的相關技術資料，技術說明，及基本技術要求；
    2）國家現行有關設計規(guī)范、施工及驗收規(guī)范、質量評定標準；
    3）反滲透系統設計依據美國；
    4）ZBG98020-90《水處理設備系列型譜》；
    5）電力裝置的繼電保護和自動裝置設計規(guī)范(GB50062-1992)；
    6) 工業(yè)與民用電力裝置的接地設計規(guī)范(GBJ65-1983)；
    7）GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM （25℃）95％以上時間；  
奧克恩環(huán)保電子行業(yè)EDI超純水設備簡述： 
  既將水中的導電介質幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水稱為超純水,我國電子工業(yè)部將電子工業(yè)用水劃分為四級用水標準（18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM），奧克恩環(huán)保采用采用當今的雙級反滲透純化水處理技術＋EDI模塊化設計,原水通過一、二級反滲透系統去除各種鹽份及雜質,再經過EDI系統對反滲透產水高度凈化，使水質提高。此電子行業(yè)EDI超純水設備不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，系統工藝*、水質穩(wěn)定、自動化程度高、操作簡便、占地少、運行費用低、綠色環(huán)保、維護方便,處理后可生產出水電阻率可達到18.2兆的超純水。