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  • EDI超純水系統(tǒng) 高純水
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2021/8/16 19:08:17

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品規(guī)格:0.25m3/h-200m3/h(可按需定制)產(chǎn)水水質(zhì):電阻≥10?.cm核心技術(shù):雙級(jí)反滲透+EDI核心部件:RO膜組、EDI模塊運(yùn)行方式:全自動(dòng)運(yùn)行(PLC)產(chǎn)品特點(diǎn):產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定,運(yùn)行成本低售后服務(wù):終身維護(hù),24小時(shí)服務(wù)電源電壓:380V

EDI超純水系統(tǒng) 高純水詳細(xì)信息

一、設(shè)備簡(jiǎn)介

      電去離子Electrodeionization,簡(jiǎn)稱EDI,又稱連續(xù)電解除鹽技術(shù),它地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體,通過(guò)陰、陽(yáng)離子的選擇透過(guò)作用以及離子交換樹(shù)脂對(duì)水中離子的交換作用,在電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移,從而達(dá)到水的深度凈化除鹽,并通過(guò)水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)裝填樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生,因此EDI制水過(guò)程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水。
       半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,線寬越窄,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
      
      二、設(shè)備原理


    電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場(chǎng)的作用下,通過(guò)隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng),利用交換膜對(duì)離子的選擇透過(guò)作用來(lái)對(duì)水質(zhì)進(jìn)行提純的一種的水處理技術(shù)。電滲析器的一對(duì)電極之間,通常由陰膜,陽(yáng)膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽(yáng)離子可透過(guò)陽(yáng)膜,陰離子可透過(guò)陰膜)。淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過(guò)陽(yáng)膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽(yáng)膜截留,這樣通過(guò)淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn),電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達(dá)到淡化、提純、濃縮或精制的目的。

   三、工藝流程

      1、如圖片“工藝流程圖---EDI“


    四、技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)水量
根據(jù)需求訂制(0.5-300噸/時(shí))
原水源
自來(lái)水或地下水(電導(dǎo)率小于400us/cm)
產(chǎn)水水質(zhì)
電導(dǎo)率小于0.056us/cm(電阻率≥18MΩ/cm)
設(shè)備功率
5KW-800KW
運(yùn)行狀態(tài)
自動(dòng)運(yùn)行、定時(shí)反洗
反洗頻率
隨進(jìn)水水質(zhì)而變化(1~3天)
化學(xué)清洗
隨膜材質(zhì)及膜污染情況而定
產(chǎn)品特點(diǎn)
人機(jī)對(duì)話、運(yùn)行穩(wěn)定、水質(zhì)可靠

進(jìn)水要求:
   
以下是保證 EDI 正常運(yùn)行的條件。為了使系統(tǒng)運(yùn)行效果更佳,系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)適當(dāng)提高這些條件。
   ★給水:RO 純水,一般水的電導(dǎo)率為 4-30us/cm。
   ★PH:5.0-8.0(在此 PH 條件下,水硬度不能太高)
   ★溫度:5-35℃
   ★進(jìn)水壓力:為 4kg/cm2(60psi),小為 1.5kg/cm2(25psi)。
   注意:組件壓力損失取決于流量和水溫。
   EDI 組件標(biāo)準(zhǔn)配置:
   ★出水壓力:濃水和電極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品的出口壓力。
   ★硬度(以 CaCO3 計(jì)):為 1.0ppm,建議采用 0.1ppm。
   ★物:為 0.05ppm (TOC)。
   ★氧化劑:為 0.05ppm(CL2),0.02ppm(03)建議兩者都沒(méi)有。
   ★變價(jià)金屬:為 0.01 ppm (Fe)。
   ★二氧化硅:50-150ppb。
   ★二氧化碳 CO2 的總量:二氧化碳含量和 PH 值將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。在大于10ppm 時(shí),一般應(yīng)在 EDI 設(shè)備前安裝脫氣裝置。 

   五、設(shè)備優(yōu)點(diǎn)
1、占地空間小,省略了混床和再生裝置。
2、產(chǎn)水連續(xù)穩(wěn)定,出水質(zhì)量高,而混床在樹(shù)脂臨近失效時(shí)水質(zhì)會(huì)變差。
3、運(yùn)行費(fèi)用低,再生只耗電,不用酸堿,節(jié)省材料費(fèi)用。
4、環(huán)保效益,增加了操作的安全性。
5、不需要酸堿化學(xué)試劑來(lái)再生(綠色環(huán)保)。
6、與同類進(jìn)口產(chǎn)品比,能耗下降30%左右,節(jié)約運(yùn)行費(fèi)用。

 

 

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