產(chǎn)品介紹

真空等離子表面處理機(jī)處理原理：

在射頻等離子體放電中，當(dāng)?shù)入x子體中電子能量與此鍵能相當(dāng)，則在等離子處理過(guò)程中電子對(duì)材料表面轟擊很可能使化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂或是與其發(fā)生刻燭作用。材料表面和外來(lái)的單體在等離子體作用下發(fā)生反應(yīng)，并且由于等離子相中電子、激發(fā)態(tài)原子分子、自由基、光子等粒子的存在，使得體系具有豐富的化學(xué)活性。 除了電子的轟擊外，等離子體的能量可通過(guò)光福射、中性分子流和離子流作用于材料表面。在等離子體系中的中性粒子將通過(guò)連續(xù)不斷地轟擊固體表面將能量轉(zhuǎn)移給高分子材料。這些中性粒子的能量具有四種形式：動(dòng)能、振動(dòng)能、離解 能和激化能。動(dòng)能和振動(dòng)能只對(duì)高分子材料起加熱作用，而自由基離解能則通常是通過(guò)引起材料表面的各種化學(xué)反應(yīng)而得到消散的，也可與表面的自由基結(jié)合而使材料加熱。激化分子和原子是以與固體表面碰撞而達(dá)到消散的。這些亞穩(wěn)態(tài)分子和原子的能量通常大于材料的離解能，因而在碰撞過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生聚合物自由基，促使纖維表層產(chǎn)生刻燭、交換、接枝和共聚等反應(yīng)。

此外，由于材料在處理過(guò)程中，等離子體中的分子、原子和離子滲入到材料表層，使材料表面的原子逸入等離子體中。這個(gè)過(guò)程可以達(dá)到常規(guī)方法難以達(dá)到的化學(xué)和物理改性效果，它使表面大分子鏈斷裂，呈微觀不平的粗糖狀態(tài)，為進(jìn)一步改性表面性質(zhì)創(chuàng)造條件； 或在表面生成離子、自由基而改變材料表面的親水性、滲透性、導(dǎo)電性以及分子量等。另外，聚合物表面的結(jié)晶相和無(wú)定形相的比例也可能發(fā)生變化。 一般認(rèn)為，在經(jīng)過(guò)等離子體作用后，材料表面主要發(fā)生4種物理化學(xué)變化：

產(chǎn)生自由基：放點(diǎn)空間活性離子撞擊材料表面使表面分子化學(xué)鍵被打開(kāi)從 而產(chǎn)生大分子自由基，使材料表面具有活性。

表面刻燭：使材料表面變得粗糖，增加材料比表面積，是表面形貌發(fā)生變化。

表面交聯(lián)：將材料表面的自由基之間重新結(jié)合，形成一層致密的網(wǎng)狀交聯(lián) 層。

引入極性基團(tuán)：表面的自由基與等離子體放電區(qū)間的氧、氮等活性粒子結(jié) 合從而引入具有較強(qiáng)反應(yīng)活性的極性基團(tuán)。 這種物理化學(xué)變化的作用效果由材料基體性質(zhì)、等離子體氣相組成以及等 離子體激勵(lì)源性質(zhì)共同決定。 存在于等離子體相中的主要是高能電子、離子和自由基等，通過(guò)其碰撞會(huì)引 起激發(fā)福射，所產(chǎn)生的光子被認(rèn)為是等離子體改性的重要組分之一。這些微粒通過(guò)與材料表面的相互作用來(lái)改變材料原有的性質(zhì)。

真空等離子表面處理機(jī)特點(diǎn)：

與傳統(tǒng)表面處理方法相比, 真空等離子體表面處理具有以下明顯優(yōu)點(diǎn)：

(1) 處理溫度低, 處理時(shí)間短, 節(jié)約能耗, 可縮短工藝流程;

(2) 處理過(guò)程中不使用酸堿等化工原料, 避免了高溫潮濕的生產(chǎn)環(huán)境;

(3) 處理深度僅為數(shù)百埃到幾納米, 不影響基體的固有性質(zhì);

(4) 處理過(guò)程屬于干法處理, 可大幅降低水資源消耗, 對(duì)節(jié)約水資源有重要的社會(huì)經(jīng)濟(jì)意義;

(5) 處理過(guò)程中無(wú)三廢排放, 既保護(hù)了環(huán)境, 又節(jié)約了企業(yè)的治污費(fèi)用, 符合國(guó)家的環(huán)保政策;

(6) 可采用不同的氣體介質(zhì)進(jìn)行處理, 對(duì)材料最終的表面化學(xué)結(jié)構(gòu)和性質(zhì)有較好的可控性。