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等離子去膠機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)TS-ET15
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/3/4 13:13:59
  • 訪問次數(shù)552
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深圳市東信高科自動(dòng)化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早期一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動(dòng)化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動(dòng)化設(shè)備等。公司現(xiàn)有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級(jí)研發(fā)工程師近40余人,售后服務(wù)25余人。 為適應(yīng)國內(nèi)外市場(chǎng)對(duì)等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國等離孑體硏究所,中囯等離子硏究所,囯內(nèi)外科硏機(jī)構(gòu),投入相當(dāng)大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機(jī)、等離子刻蝕機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機(jī)及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產(chǎn)品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場(chǎng)實(shí)踐及等離子新技術(shù)研究和應(yīng)用,成功的推動(dòng)了我國低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和和氣、液、固態(tài)物質(zhì)的處理方面的發(fā)展。 憑借公司的*研發(fā)實(shí)力,東信高科已成功申請(qǐng)多項(xiàng)技術(shù)。目前經(jīng)過近二十年的發(fā)展,公司產(chǎn)品先后經(jīng)過了四次升級(jí)換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團(tuán)、愛普生電子、中國兵器集團(tuán)、、東南大學(xué)光電實(shí)驗(yàn)室、藍(lán)思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學(xué)、信利光電、德昌電機(jī)、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達(dá)成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的設(shè)備供應(yīng)商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營理念,立足中國,面向,打的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!
半導(dǎo)體超聲波清洗機(jī)
產(chǎn)品介紹等離子去膠機(jī)產(chǎn)品參數(shù):設(shè)備型號(hào)TS-ET15等離子去膠機(jī)控制方式PLC+觸摸屏供電電源AC220V(±10V),50/60hz等離子源功率300W(連續(xù)可調(diào))等離子源頻率13.56MHz工藝氣體通道2路氣體通道
等離子去膠機(jī) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品介紹

等離子去膠機(jī)產(chǎn)品參數(shù):

設(shè)備型號(hào) TS-ET15等離子去膠機(jī)
控制方式 PLC+觸摸屏
供電電源 AC220V(±10V),50/60hz
等離子源功率 300W(連續(xù)可調(diào))
等離子源頻率 13.56MHz
工藝氣體通道 2路氣體通道, 可通入氣體:氬氣、氫氣、氧氣、氮?dú)?、空氣?/span>
氣體流量控制 精密針閥式浮子流量計(jì)(2路)
內(nèi)腔尺寸(方形) L270*W280*H200 mm 材質(zhì):316不銹鋼
電極板尺寸 230mm *230mm (可處理產(chǎn)品:8英寸晶圓,每次可處理一片)
外形尺寸(mm) 長550mm x 寬550mm x 高800mm

等離子去膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):

去膠快速干凈

對(duì)清洗樣片無損傷

操作簡(jiǎn)單方便

桌面式設(shè)計(jì),占地面積小

可處理8英寸晶圓

等離子去膠機(jī)典型應(yīng)用:

高劑量離子注入光刻膠的去除

濕法或干法刻蝕前后殘膠去除

MEMS中犧牲層的去除

去除化學(xué)殘余物

去浮渣工藝

SU-8光刻膠去除

負(fù)性光刻膠去除

可以利用等離子去膠機(jī)除去玻璃晶圓表面的部分殘余圖形化光刻膠。

等離子去膠介紹:

由于濕法去膠需消耗大量的酸、堿及有機(jī)溶劑等,成本既高,又有一定的毒性,而且采用丙酮棉花擦硅片表面膠膜時(shí),容易造成鋁層劃傷.影響產(chǎn)品的質(zhì)量和成品率。為了克服這些缺點(diǎn),近年來發(fā)展了多種干式去膠方法。其中等離子去膠效果較好,普遍受到人們的重視,并已用于生產(chǎn)之中。下面簡(jiǎn)單介紹它的工作原理。

什么叫等離子去膠

等離子體是屬于物質(zhì)的第四態(tài),和固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)不同。建立等離子體需要和物質(zhì)之間有能量的相互作用。例如,可以利用在高電場(chǎng)下氣體分子被激發(fā)電離而產(chǎn)生的冷放電現(xiàn)象。在低真空下,被電場(chǎng)加速的雜散電子跟氣體原子或分子相碰撞,一直到達(dá)這種碰撞是非彈性碰撞時(shí),便產(chǎn)生二次發(fā)射電子,它們進(jìn)一步再與氣體分子碰撞,這樣產(chǎn)生氣體放電擊穿,并保持動(dòng)態(tài)平衡。在放電過程中,非彈性碰撞可以產(chǎn)生分子徼勵(lì)和自由基,它們的化學(xué)性質(zhì)很活潑,但壽命很短,很快就會(huì)締合。當(dāng)激發(fā)和締合的數(shù)量相等時(shí),即達(dá)動(dòng)態(tài)平衡,則維持等離子體狀態(tài)。

光刻膠的主要成分是樹脂、感光材料和有機(jī)溶劑,它們的分子結(jié)構(gòu)都是由長鏈的碳、氫、氧組成。所謂等離了去膠是在反應(yīng)系統(tǒng)中通人少量的氧氣,在強(qiáng)電場(chǎng)作用下,使低氣壓的氧氣產(chǎn)生等離子體,其中活化氧(或稱活潑的原子態(tài)氧)占有適當(dāng)?shù)谋壤?,可以迅速地使光刻膠氧化生成CO2和H20等可揮發(fā)性氣體,被機(jī)械泵抽走.這桂把硅片上的光刻膠膜去除掉。

實(shí)踐表明,由于等離子去膠機(jī)操作方便,去膠效率高,表面干凈,無劃傷,硅片溫度低等,有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量。它不用酸、堿及有機(jī)溶劑等,成本即低,又不會(huì)造成公害等。因此受到人們普遍重視,在生產(chǎn)中已逐步采用。

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