產(chǎn)品介紹
等離子去膠機(jī)產(chǎn)品參數(shù):
| 設(shè)備型號(hào) | TS-ET15等離子去膠機(jī) |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏 |
| 供電電源 | AC220V(±10V),50/60hz |
| 等離子源功率 | 300W(連續(xù)可調(diào)) |
| 等離子源頻率 | 13.56MHz |
| 工藝氣體通道 | 2路氣體通道, 可通入氣體:氬氣、氫氣、氧氣、氮?dú)?、空氣?/span> |
| 氣體流量控制 | 精密針閥式浮子流量計(jì)(2路) |
| 內(nèi)腔尺寸(方形) | L270*W280*H200 mm 材質(zhì):316不銹鋼 |
| 電極板尺寸 | 230mm *230mm (可處理產(chǎn)品:8英寸晶圓,每次可處理一片) |
| 外形尺寸(mm) | 長550mm x 寬550mm x 高800mm |
等離子去膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):
去膠快速干凈
對(duì)清洗樣片無損傷
操作簡(jiǎn)單方便
桌面式設(shè)計(jì),占地面積小
可處理8英寸晶圓
等離子去膠機(jī)典型應(yīng)用:
高劑量離子注入光刻膠的去除
濕法或干法刻蝕前后殘膠去除
MEMS中犧牲層的去除
去除化學(xué)殘余物
去浮渣工藝
SU-8光刻膠去除
負(fù)性光刻膠去除
可以利用等離子去膠機(jī)除去玻璃晶圓表面的部分殘余圖形化光刻膠。
等離子去膠介紹:
由于濕法去膠需消耗大量的酸、堿及有機(jī)溶劑等,成本既高,又有一定的毒性,而且采用丙酮棉花擦硅片表面膠膜時(shí),容易造成鋁層劃傷.影響產(chǎn)品的質(zhì)量和成品率。為了克服這些缺點(diǎn),近年來發(fā)展了多種干式去膠方法。其中等離子去膠效果較好,普遍受到人們的重視,并已用于生產(chǎn)之中。下面簡(jiǎn)單介紹它的工作原理。
什么叫等離子去膠
等離子體是屬于物質(zhì)的第四態(tài),和固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)不同。建立等離子體需要和物質(zhì)之間有能量的相互作用。例如,可以利用在高電場(chǎng)下氣體分子被激發(fā)電離而產(chǎn)生的冷放電現(xiàn)象。在低真空下,被電場(chǎng)加速的雜散電子跟氣體原子或分子相碰撞,一直到達(dá)這種碰撞是非彈性碰撞時(shí),便產(chǎn)生二次發(fā)射電子,它們進(jìn)一步再與氣體分子碰撞,這樣產(chǎn)生氣體放電擊穿,并保持動(dòng)態(tài)平衡。在放電過程中,非彈性碰撞可以產(chǎn)生分子徼勵(lì)和自由基,它們的化學(xué)性質(zhì)很活潑,但壽命很短,很快就會(huì)締合。當(dāng)激發(fā)和締合的數(shù)量相等時(shí),即達(dá)動(dòng)態(tài)平衡,則維持等離子體狀態(tài)。
光刻膠的主要成分是樹脂、感光材料和有機(jī)溶劑,它們的分子結(jié)構(gòu)都是由長鏈的碳、氫、氧組成。所謂等離了去膠是在反應(yīng)系統(tǒng)中通人少量的氧氣,在強(qiáng)電場(chǎng)作用下,使低氣壓的氧氣產(chǎn)生等離子體,其中活化氧(或稱活潑的原子態(tài)氧)占有適當(dāng)?shù)谋壤?,可以迅速地使光刻膠氧化生成CO2和H20等可揮發(fā)性氣體,被機(jī)械泵抽走.這桂把硅片上的光刻膠膜去除掉。
實(shí)踐表明,由于等離子去膠機(jī)操作方便,去膠效率高,表面干凈,無劃傷,硅片溫度低等,有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量。它不用酸、堿及有機(jī)溶劑等,成本即低,又不會(huì)造成公害等。因此受到人們普遍重視,在生產(chǎn)中已逐步采用。


















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