天津半導體純水設備生產(chǎn)廠家

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天津半導體純水設備簡介：

半導體純水設備

5、工藝說明

5.1  預處理部分目的：為反滲透裝置提供合格的進水。

5.1.1原水預處理的目的和組成

A.反滲透系統(tǒng)進水要求：

（1）污染指數(shù)：          SDI≤4；

（2）余氯：              <0.1 ppm

（3）濁度                <1NTU

（4）供水Fe3+             ≤0.01ppm。

（5）供水水溫適宜范圍    10～30℃。

（6）碳酸鈣飽和指數(shù)      LSI：<0

 預處理系統(tǒng)就是通過絮凝、過濾、吸附等方法使反滲透進水達到以上要求，以實現(xiàn)以下目的：

（1）防止反滲透裝置膜面結(jié)垢（包括CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、鐵鋁氧化 物等）；

（2）防止膠體物質(zhì)及懸浮固體微粒對反滲透的污堵；

（3）防止有機物質(zhì)的對反滲透的污堵和降解；

（4）防止微生物對反滲透的污堵；

（5）防止氧化性物質(zhì)對反滲透膜的氧化破壞；

C.預處理系統(tǒng)的組成：包括石英砂濾器、活性炭濾器。

 5.1.2石英砂濾器

多介質(zhì)過濾器中的濾料包括多種規(guī)格的石英砂，用于除去原水中的懸浮物及及脫穩(wěn)后的膠體,以使出水的污染指數(shù)SDI<4達到RO進水要求。