Genius IF 超級(jí)熒光光譜儀儀器特點(diǎn)

集成電腦系統(tǒng)

高分辨率硅漂移探測(cè)器

高功能X射線光管，檢測(cè)光斑尺寸可變，專為適應(yīng)多尺寸的樣品而設(shè)計(jì)

Genius IF有著結(jié)構(gòu)，由8個(gè)二次靶和 8個(gè)定制的光管濾管片相結(jié)合，提高激發(fā)效果，確?？焖倬_地測(cè)定微量元素。

WAG（廣角結(jié)構(gòu)）的二次靶技術(shù)能地分析高含量、低含量及微量元素。

X射線管激發(fā)的二次靶（純?cè)兀㎏特征線，可做到“單色”激發(fā)樣品。

使用二次靶有效降低某些元素的檢出限。極低的檢出限使得Genius IF應(yīng)用更為廣 泛，能進(jìn)入傳統(tǒng)EDXRF無(wú)法使用的領(lǐng)域，成為一款功能*的元素分析儀。

Genius IF 同樣可在經(jīng)典的直接激勵(lì)模式下操作，這款光譜儀既可用于傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室，由于其緊湊堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，它還可成為移動(dòng)實(shí)驗(yàn)室的理想選擇。它符合沖擊試驗(yàn)的MIL 810E規(guī)格。

硅漂移探測(cè)器(SDD): 硅漂移探測(cè)器具有高分辨率和高計(jì)數(shù)率，分辨率低至123eV,具有更快的響應(yīng)速度和小化的操作時(shí)間。

SDD LE: 超薄的探測(cè)器窗口提供性能*的低能元素（輕元素）分析。

Genius IF 超級(jí)熒光光譜儀技術(shù)參數(shù)

測(cè)量范圍：SDD系列：F(9)至Fm(100)或SDD LE 系列：C(6)至Fm(100)

元素測(cè)量范圍：1ppm~*

X-光管靶材：Rh/Ag/Mo/W/Pd 可選

X-射線源：50kV,50W

激發(fā)模式：直接激發(fā)和二次靶激發(fā)

穩(wěn)定性：室溫條件下精確到0.05至0.1%

探測(cè)器：硅漂移探測(cè)器（SDD）或（SDD  LE）

視窗：鈹窗&輕元素優(yōu)化薄窗

濾光片：8款可選

分辨率：125ev±5ev

自動(dòng)進(jìn)樣器：8位（16位可選）

工作條件：空氣/真空/氦氣

尺寸：22 x 22cm, H=5cm

尺寸（L×W×H，cm）：內(nèi)包裝: 55 x 55 x 32, 外包裝: 80 x 80 x 65

重量：50kg (凈重), 90kg (毛重)

控制系統(tǒng)

電腦：集成PC系統(tǒng)

軟件：在Microsoft Windows™ OS 操作系統(tǒng)上運(yùn)行的nEXt™ 分析包+基礎(chǔ)基本參數(shù).

控制：自動(dòng)控制激發(fā)，檢測(cè)，樣品處理和數(shù)據(jù)處理

光譜處理：自動(dòng)逃逸峰和移除背景. 自動(dòng)反重疊峰值. 圖表統(tǒng)計(jì)

定量分析算法：元素間校正的多元回歸分析法 (6 種可用模型). 毛重，凈重，匹配和數(shù)字濾波強(qiáng)度法

報(bào)告輸出：用戶自定義數(shù)據(jù)打印輸出

儀器創(chuàng)新點(diǎn)

*擁有二次靶激發(fā)模式的臺(tái)式X射線熒光光譜儀，擁有技術(shù)的廣角幾何加上8個(gè)二次靶及8款可訂制的濾光片，可準(zhǔn)確測(cè)定微量和痕量元素，硅漂移 (SDD)探測(cè)器具有高能量分辨率和高計(jì)數(shù)率，能量分辨率低至123Ev.

主要應(yīng)用

采礦、金屬冶煉、環(huán)境保護(hù)、石油化工、放射性物質(zhì)檢測(cè)、材料研究