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產(chǎn)品簡介
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產(chǎn)品介紹
YRTP快速退火爐是一款多功能的真空氣氛燒結(jié)爐，既可以用于材料的快速升降溫退火，也可用于化學(xué)氣相沉積（CVD）法，在鎳或銅箔上制備石墨烯的制備，稍加調(diào)整，一機(jī)多用，被廣泛的應(yīng)用各研究院所。
加熱系統(tǒng)采用環(huán)形紅外短波加熱器，快升溫速率可達(dá)300℃/S，測溫采用精準(zhǔn)的S型貴金屬熱電偶直接測量式樣表面，使加熱工件（式樣)的溫區(qū)更加均勻準(zhǔn)確，控制界面采用大尺寸觸摸屏，傻瓜智能式操作，可預(yù)設(shè)置十條溫度曲線。控制數(shù)學(xué)模型采用*的PID自學(xué)習(xí)模糊雙閉環(huán)控制模式，使控溫精度在快速升溫的恒溫狀態(tài)仍能保持在±3℃，經(jīng)過*多次的各種試樣試驗(yàn)驗(yàn)證，已被應(yīng)用于半導(dǎo)體器件研發(fā)及生產(chǎn)等領(lǐng)域，廣泛滿足離子注入后的快速退火，歐姆接觸快速合金，硅化物合金退火，氧化物生長，銅銦鎵硒光伏應(yīng)用中的硒沉積及其它快速熱處理工藝的要求。
YRTP快速退火爐技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品型號(hào) | YRTP-1100 |
爐體結(jié)構(gòu) | 雙層殼體結(jié)構(gòu)，高精度移動(dòng)平臺(tái) |
額定溫度（℃） | 1100 |
使用溫度（℃） | ≤1000 |
溫場均勻性（℃） | ±3℃ |
溫度狀態(tài)工藝時(shí)間（S) | 2~100（100~1000℃） |
快升溫速（℃/S） | 200 |
降溫速率（℃/S） | 1~200（通氮?dú)?，速率更快?/p> |
溫度控制模式 | 智能模糊全閉環(huán)PID控制 |
操作方式 | 觸摸屏控制 |
超高溫狀態(tài)檢測 | 軟件檢測出溫度信息出現(xiàn)高溫異常時(shí)，切斷主回路 |
觸摸屏尺寸 | 7"LED |
大功率（kW） | 15 |
額定電壓 | AC380~400V，50HZ（60Hz定制） |
傳感器類型 | S型單鉑銠 |
反應(yīng)腔室內(nèi)徑尺寸 | Φ100X200 |
式樣有效空間 | 4" |
真空系統(tǒng) | 選配 |
預(yù)留真空抽口 | KF16 |
進(jìn)出氣接口 | Φ6卡套 |
尺寸重量 | 長1000×深600×高600mm；凈重：約50kg |
可根據(jù)客戶要求定制！
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