基于廣大科研界對(duì)實(shí)現(xiàn)大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對(duì)卷宏量制備的需求,我公司開發(fā)出一種新的卷對(duì)卷連續(xù)快速生長石墨烯薄膜的方法，設(shè)計(jì)并研制了可達(dá)到中試水平的石墨烯卷對(duì)卷化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，通過對(duì)石墨烯成核與生長的調(diào)控實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)石墨烯薄膜生長；此款設(shè)備是快速冷卻卷對(duì)卷等離子體增強(qiáng)CVD連續(xù)生長爐，它由高溫生長腔體，三路質(zhì)量流量計(jì)氣路系統(tǒng)，真空機(jī)組，RF射頻電源模塊，石英管，冷卻裝置，收放銅箔的密封裝置，自動(dòng)化控制系統(tǒng)組成，兩端分別安裝有進(jìn)料進(jìn)氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放銅箔的密封裝置），收放銅箔的密封裝置內(nèi)分別對(duì)應(yīng)安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)具有快速冷卻、連續(xù)生長的優(yōu)點(diǎn)，可以進(jìn)行大面積、高質(zhì)量石墨烯的規(guī)?；L。