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超純水設(shè)備勇敢展露“芯”機(jī)
芯片制造主要分為三大環(huán)節(jié)：晶圓加工制造、芯片前期加工、芯片后期封裝。其中技術(shù)難度大、核心的是芯片前期加工這個(gè)環(huán)節(jié)。芯片前期加工環(huán)節(jié)少不了水資源的陪伴，除此之外對(duì)水質(zhì)的要求也越來(lái)越高，不是超純水級(jí)別更是難以近身。超純水設(shè)備此時(shí)勇敢展露“芯”機(jī)，毫不客氣“承包”了所有芯片用水。
超純水設(shè)備能有效去除水中雜質(zhì)，保證設(shè)備出水水質(zhì)。采用雙反+EDI+拋光混床組合工藝。反滲透系統(tǒng)利用反滲透原理，主要去除水中的溶解鹽、有機(jī)物、膠體和大分子。降低水質(zhì)中的離子含量。EDI不需要酸堿再生。這是一種新的脫鹽方法。EDI不需要再生回收的化學(xué)品，運(yùn)行成本低，EDI系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，連續(xù)運(yùn)行，出水水質(zhì)好且穩(wěn)定，出水電阻率高≥ 15MΩ·CM。拋光混床用于高純水處理系統(tǒng)的末端凈化器。設(shè)計(jì)、制造和生產(chǎn)的半導(dǎo)體級(jí)混床離子交換樹(shù)脂可將水中的離子含量降至PPB級(jí)，出水電阻率可達(dá)18.2MΩ·CM，換句話而言就是幾乎去除了除氧和氫以外所有原子，滿足芯片生產(chǎn)要求。
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