日本Elionix 微細加式電子束曝光電子束直寫機ELS-F125/F100/HS50

ELS-F125是Elionix推出的世界上*加速電壓達125KV的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。(以下參數(shù)基于ELS-F125)

ELS-F125具有以下優(yōu)點：

l 。超高書寫精度

- 5 nm 線寬精度 @125 kV

- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應小化 @125 kV

2. 大通量、均勻性好

- 寬視野書寫:500um視場下10 nm線寬

- 高束流下電子束直徑依然很小，大通量而不影響分辨率，2 nm電子束直徑@1 nA

3. 界面用戶友好

基于Windows系統(tǒng)的CAD和SEM界面:

-簡單易用的圖案設計功能

-易于控制的電子束條件

二、主要功能

2.1 主要應用

納米器件的微結構

集成光學器件，如光柵，光子晶體等

NEMS結構，復雜精細結構

光刻掩模板，壓印模板

2.2 技術能力

三、應用