PICOSUN P-300 Advanced ALD 高級(jí)型原子層沉積機(jī)

襯底尺寸和類型：

。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（雙面/背對(duì)背）
。高達(dá)300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（雙面/背對(duì)背）
。大批量的3D產(chǎn)品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫(yī)療植入部件，機(jī)械部件等）
。粉末與顆粒
。Roll-to-roll, 襯底寬 300 mm
。多孔，通孔，與高深寬比（HAR）樣品
工藝溫度： 50 - 500 °C

基片傳送選件：

。氣動(dòng)升降（手動(dòng)裝載）
。半自動(dòng)裝載，用線性裝載器實(shí)現(xiàn)
。全自動(dòng)轉(zhuǎn)載，用工業(yè)機(jī)器人實(shí)現(xiàn)

前驅(qū)體 ：

。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)
。4根獨(dú)立源管線，最多加載6個(gè)前驅(qū)體源

重量： 400 + 300 kg

尺寸 ：(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

選件： PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計(jì)，與工廠軟件連接服務(wù)。

驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) ：標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝