·離子源控制，用于軟離子化和表觀電勢(shì)質(zhì)譜
·靈敏度增強(qiáng)用于大質(zhì)量數(shù)的傳輸，自動(dòng)質(zhì)量數(shù)范圍列表

·一級(jí)過(guò)濾處增加射頻，抗污染物能力增強(qiáng)
·內(nèi)置UHV 兼容的水冷卻罩

·靈敏度高，檢測(cè)范圍：  至5ppb

·質(zhì)量數(shù)范圍：              0~ 510amu
·長(zhǎng)期穩(wěn)定性：              24h以上，峰高變化小于±0.5%)
·交叉離子源，束接收角同軸的橫斷面呈 ±35°
·2mm 束接受孔，也可為特殊使用者配置
·分子束研究中，檢測(cè)極限低至30 ions/s
·監(jiān)測(cè)生長(zhǎng)速率：       1? / min，或更低

XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)