一、什么是EDI純水設(shè)備、EDI超純水設(shè)備

EDI是連續(xù)電除鹽技術(shù)，屬于純水制取的成熟工藝，常搭配反滲透設(shè)備使用。 EDI純水設(shè)備、EDI超純水設(shè)備，核心組件都是EDI膜堆，依靠電場作用分離水中離子，不用酸堿藥劑再生，運(yùn)行穩(wěn)定，多用于工業(yè)凈水場景。

很多人容易把兩者混淆：EDI純水設(shè)備偏向產(chǎn)出普通高純水;EDI超純水設(shè)備在EDI主機(jī)基礎(chǔ)上，會(huì)增加拋光混床、TOC脫除、超濾等后置單元，進(jìn)一步降低水中雜質(zhì)，滿足更高水質(zhì)要求。

二、設(shè)備構(gòu)造對(duì)比

EDI純水設(shè)備

前置預(yù)處理單元：原水箱、原水泵、多介質(zhì)過濾器、活性炭過濾器、軟化器

反滲透單元：RO膜組件、高壓泵、清洗裝置

EDI主機(jī)單元：EDI膜堆、整流電源、管路儀表

產(chǎn)水儲(chǔ)存單元：純水水箱

整套系統(tǒng)以RO+EDI為主，結(jié)構(gòu)簡潔，滿足常規(guī)高純水需求，沒有額外深度精制模塊。

EDI超純水設(shè)備

在EDI純水設(shè)備整套結(jié)構(gòu)之上，增加深度處理模塊：

前置+RO+EDI主體(和EDI純水設(shè)備一致)

后置精制單元：拋光混床/TOC去除器、紫外線殺菌器、超濾膜

循環(huán)輸送單元：高純水管路、循環(huán)泵、在線水質(zhì)監(jiān)測儀表

重點(diǎn)差異：增加循環(huán)管路與深度凈化組件，控制顆粒、有機(jī)物、溶解離子，管路材質(zhì)要求更高，一般采用PVDF等高純管道，防止二次污染。

三、產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn)對(duì)比

說明：水質(zhì)指標(biāo)為行業(yè)通用參考值，實(shí)際水質(zhì)受原水水質(zhì)、設(shè)備運(yùn)維影響

EDI純水設(shè)備產(chǎn)水指標(biāo)

電阻率：10～15 MΩ·cm(25℃)

適用：一般化工、鍋爐補(bǔ)給水、普通清洗用水、實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)用水

特點(diǎn)：離子含量低，滿足大部分工業(yè)高純水需求，不控制微小顆粒與TOC

EDI超純水設(shè)備產(chǎn)水指標(biāo)

電阻率：18.2 MΩ·cm(25℃，理論極限值)

TOC總有機(jī)碳：≤1～5 ppb

顆粒：控制0.05μm以上微粒

適用：半導(dǎo)體芯片、光電行業(yè)、醫(yī)藥注射用水、精密電子清洗、分析實(shí)驗(yàn)室

特點(diǎn)：除離子外，嚴(yán)控有機(jī)物、細(xì)菌、微小顆粒物，水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)更高

四、工作原理簡要說明

EDI純水設(shè)備：原水經(jīng)過預(yù)處理去除泥沙、余氯，反滲透去除大部分鹽分，進(jìn)入EDI膜堆。在直流電場作用下，水中陰陽離子穿過離子交換膜被遷移到濃水側(cè)，實(shí)現(xiàn)水的脫鹽，產(chǎn)出高純水。

EDI超純水設(shè)備：前面工藝流程和EDI純水設(shè)備相同;EDI產(chǎn)水之后，繼續(xù)經(jīng)過紫外氧化、拋光混床、超濾循環(huán)處理，進(jìn)一步去除殘余離子、有機(jī)物和微生物，持續(xù)維持超高水質(zhì)。

五、選型參考

只需要普通高純水，水質(zhì)要求10-15兆歐，預(yù)算有限 → 選用EDI純水設(shè)備

行業(yè)對(duì)TOC、微粒、電阻率要求嚴(yán)苛，需要18.2兆歐超純水 → 選用EDI超純水設(shè)備

其他考量：原水水質(zhì)、用水量、現(xiàn)場安裝空間、后期運(yùn)維成本。

六、總結(jié)

EDI純水設(shè)備和EDI超純水設(shè)備，核心脫鹽單元都是EDI膜堆，基礎(chǔ)工藝一致。兩者最大區(qū)別在于后置精制系統(tǒng)和產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn)。 EDI純水設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，產(chǎn)出高純水，適配多數(shù)常規(guī)工業(yè)場景;EDI超純水設(shè)備增加深度凈化與循環(huán)系統(tǒng)，可以達(dá)到18.2MΩ·cm極限電阻率，滿足電子、醫(yī)藥等行業(yè)嚴(yán)苛用水要求。企業(yè)選型時(shí)，優(yōu)先以生產(chǎn)用水指標(biāo)作為判斷依據(jù)。