干燥設(shè)備 粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 過(guò)濾分離設(shè)備 過(guò)濾材料 滅菌設(shè)備 萃取設(shè)備 貯存設(shè)備 傳熱設(shè)備 鍋爐 塔設(shè)備 結(jié)晶設(shè)備 其它制藥設(shè)備
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發(fā)布時(shí)間:2025-1-18
CO 2 雪噴射清潔工藝以高效率從表面去除微米和亞微米顆粒,并且還去除基于碳?xì)浠衔锏奈廴疚?。CO 2雪清潔是非破壞性的、非磨蝕性的、無(wú)殘留的,并且不會(huì)產(chǎn)生化學(xué)廢物。
二氧化碳除雪可用于初始或后期清潔,以及半導(dǎo)體、磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器、研究、真空技術(shù)、表面科學(xué)、表面分析、光學(xué)、醫(yī)療、分析儀器、望遠(yuǎn)鏡、藝術(shù)中的許多關(guān)鍵和非關(guān)鍵清潔應(yīng)用保護(hù)、制造社區(qū)等。
應(yīng)用
許多不同的清潔應(yīng)用已被成功展示:
· 從金屬、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物
· 去除 Si、InP 和 GaAs 晶圓上的顆粒和污點(diǎn)
· 清潔光學(xué)元件,即鍍膜鏡片、激光、IR 和 UV 光學(xué)元件、光纖
· 表面分析前的樣品制備(俄歇、XPS、SIMS 和 AFM)
· 一般實(shí)驗(yàn)室、生產(chǎn)和潔凈室清潔
· 各種基材制備
· 清潔真空系統(tǒng)組件,包括電子和離子光學(xué)器件、波紋管、機(jī)加工零件
· 從微電子和混合電路中去除顆粒
· 大望遠(yuǎn)鏡鏡
· 藝術(shù)修復(fù)和清潔,火災(zāi)后修復(fù)
· 還有很多






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