詳細(xì)介紹
干涉儀是利用干涉原理測(cè)量光程之差從而測(cè)定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng),而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動(dòng)變化可測(cè)量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測(cè)得與此有關(guān)的其他物理量。測(cè)量精度決定于測(cè)量光程差的精度,干涉條紋每移動(dòng)一個(gè)條紋間距,光程差就改變一個(gè)波長(~10-7米),所以干涉儀是以光波波長為單位測(cè)量光程差的,其測(cè)量精度之高是任何其他測(cè)量方法所*的。
特點(diǎn):
1 、非接觸式測(cè)量:避免物件受損。
2 、三維表面測(cè)量:表面高度測(cè)量范圍為 2nm ---500μm。
3 、多重視野鏡片:方便物鏡的快速切換。
4 、納米級(jí)分辨率:垂直分辨率可以達(dá)0.1nm。
5 、高速數(shù)字信號(hào)處理器:實(shí)現(xiàn)測(cè)量?jī)H需幾秒鐘。
6 、掃描儀:閉環(huán)控制系統(tǒng)。
7 、工作臺(tái):氣動(dòng)裝置、抗震、抗壓。
8 、測(cè)量軟件:基于windows 操作系統(tǒng)的用戶界面,*而快速的運(yùn)算。
應(yīng)用領(lǐng)域:
聚合物和抗蝕劑表征、化學(xué)測(cè)量、電介質(zhì)特性、生物醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體、硬質(zhì)涂層、光學(xué)涂層、非金屬薄膜等。
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