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詳細(xì)摘要： 簡單介紹：碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復(fù)合鍍膜儀可進(jìn)行真空蒸碳、真空熱蒸發(fā)和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護(hù)之下進(jìn)行多種離子處理，碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復(fù)合鍍膜儀采用機(jī)械...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本型號等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗，本設(shè)備配備換位自轉(zhuǎn)式樣品臺，用戶可以在觸控屏上實現(xiàn)一鍵換位，樣品臺可在兩個...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本儀器是一款高真空緊湊型熱蒸發(fā)鍍膜儀，蒸發(fā)溫度從200℃到1700℃，采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源外套高純氧化鋁坩堝。

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：桌面型雙源蒸發(fā)鍍膜儀配有兩套蒸發(fā)源，可以通過擋板切換，實現(xiàn)對樣品的多層鍍膜，桌面型雙源蒸發(fā)鍍膜儀廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光LED的制備

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺）配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)采用靶下置樣品臺在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個靶位，直流射頻雙電源，可用于制備單層或多...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，尤其是實驗室SEM樣品制備，?桌面型雙靶直流磁控鍍膜...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調(diào)，可用于制作特定生長角度的薄膜。設(shè)備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機(jī)構(gòu)，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復(fù)雜樣品臺的功能型。設(shè)備外形為桌面級別，大大減少了安裝...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源，可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設(shè)備...