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詳細摘要： 簡單介紹：1200℃三溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃三溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度，該管...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個...

詳細摘要： 簡單介紹：該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐。爐管材質(zhì)采用高純氧化鋁,*高可在1650℃的高溫工作。為了匹配通入氫氣的試驗要求，本管...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃三路供氣低真空度旋轉CVD系統(tǒng)采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為風冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0-15°）任意可調(diào)。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫...

詳細摘要： 簡單介紹：全自動CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；四路質(zhì)子流量計能夠準確控制系統(tǒng)的供氣...

詳細摘要： 簡單介紹：1200℃三溫區(qū)旋轉自動進出料CVD系統(tǒng)安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區(qū)旋轉自動進出料CVD系統(tǒng)投料器可以以額定速率將粉料送入爐管，可實現(xiàn)在氣氛...

詳細摘要： 簡單介紹：直流型放電等離子燒結爐（DCS）電源設計更加緊湊，既可應用于大尺寸工件樣品燒結，也可用于小的多腔組件樣品制備。直流型放電等離子燒結爐（DCS）在性能上...

詳細摘要： 簡單介紹：放電等離子燒結爐（SPS）溫度可高達1600℃?？捎糜诓牧贤嘶穑牧蠠釅赫辰Y，表面處理和合成等等。處理樣品可為金屬，陶瓷，納米材料和非晶材料等。放電等...

詳細摘要： 簡單介紹：小型粉末PVD包覆系統(tǒng)是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。小型粉末PVD包覆系統(tǒng)粉末在振動樣品臺上振動翻滾，通過濺射在粉末...

詳細摘要： 簡單介紹：激光鍍膜設備系統(tǒng)由真空腔室（主濺射室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。激光鍍膜設...