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UPS三靶磁控濺射鍍膜機 行業(yè)專用設(shè)備 詳細摘要： 簡單介紹：三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導(dǎo)電膜，合金膜，半...
產(chǎn)品型號：CY-MSP325S-3RF-D 所在地： 更新時間：2026-06-16 參考價： 面議 在線留言 -
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 行業(yè)專用設(shè)備 詳細摘要： 簡單介紹：真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部...
產(chǎn)品型號：CY-TRP 所在地： 更新時間：2026-04-20 參考價： 面議 在線留言 -
CY-in-line磁控濺射系... 行業(yè)專用設(shè)備 詳細摘要： 簡單介紹：CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構(gòu)、抽氣及真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成。此外,CY-i...
產(chǎn)品型號：CY-MS 所在地： 更新時間：2026-04-19 參考價： 面議 在線留言 -
雙靶磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，...
產(chǎn)品型號：CY-MSP500S-2DC 所在地： 更新時間：2023-05-09 參考價： 面議 在線留言 -
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
產(chǎn)品型號：CY-MSP500S-2DC-1RF 所在地： 更新時間：2023-05-09 參考價： 面議 在線留言 -
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍... 詳細摘要： 簡單介紹：單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
產(chǎn)品型號：CY-FMSC 所在地： 更新時間：2023-05-09 參考價： 面議 在線留言 -
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍... 詳細摘要： 簡單介紹：單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過程，擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽，便于實驗...
產(chǎn)品型號：CY-FMSC 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . ...
產(chǎn)品型號：CY-VTC-3DC 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
產(chǎn)品型號：CY-MSP180G-1T-A 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍... 詳細摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
產(chǎn)品型號：CY-MSP190S-1T-A 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為帶偏壓的桌面型單靶磁控鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時配有偏壓電源，可以用來進行進行濺射前的等離子清洗和濺射過程中施加偏壓
產(chǎn)品型號：CY-MSP180G-1T-B 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其...
產(chǎn)品型號：CY-MSP190S-1T-RF 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控... 詳細摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
產(chǎn)品型號：CY-MSP190S-1T-UD 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合...
產(chǎn)品型號：CY-MSP190S-1T-RF 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：三靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三...
產(chǎn)品型號：CY-MSP300S-2DC1RF 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為雙靶磁濺射控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
產(chǎn)品型號：CY-MSP325G-2T-DVC-2DC 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是...
產(chǎn)品型號：CY-MSP300S-DC 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)...
產(chǎn)品型號：CY-MSP300S-2DC 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺 詳細摘要： 簡單介紹：帶振動樣品臺的三靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層...
產(chǎn)品型號：CY-MSP325S-2DCRF-ZD 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言 -
桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀 詳細摘要： 簡單介紹：本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有...
產(chǎn)品型號： 所在地： 更新時間：2023-02-16 參考價： 面議 在線留言