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詳細(xì)摘要： 簡單介紹：全自動CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；四路質(zhì)子流量計能夠準(zhǔn)確控制系統(tǒng)的供氣...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動進出料CVD系統(tǒng)安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動進出料CVD系統(tǒng)投料器可以以額定速率將粉料送入爐管，可實現(xiàn)在氣氛...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：CY-O1200-50IS-PECVD是一款等離子增強型CVD系統(tǒng)。此系統(tǒng)由150W射頻電源、單溫區(qū)管式爐、3通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)、性能優(yōu)異的真空泵...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本CVD系統(tǒng)帶水冷法蘭雙路流量計并配有雙極旋片泵、水冷機、數(shù)字真空計且該CVD系統(tǒng)可抽真空、通氣氛用于各種CVD實驗。

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：PE-HPCVD等離子增強物理化學(xué)氣相沉積由一臺雙溫區(qū)管式爐，一套鎢絲蒸發(fā)源，一套等離子發(fā)生裝置以及一套質(zhì)量流量計組成。PE-HPCVD等離子增強物理...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：R-PECVD真空旋轉(zhuǎn)等離子增強CVD設(shè)備由旋轉(zhuǎn)及傾斜機構(gòu)、單溫區(qū)管式爐、等離子發(fā)生機構(gòu)、質(zhì)量流量計供氣系統(tǒng)、高真空分子泵組部分構(gòu)成。R-PECVD真...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備包括三溫區(qū)管式爐，特殊設(shè)計的爐管及配套氣路一組，晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備通過特殊設(shè)計的管路，能夠?qū)⒎磻?yīng)氣體...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：1200℃高真空迷你CVD設(shè)備核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱。1200℃高真空迷你CVD設(shè)備包含一臺三路浮子流量計，一臺分子泵組，分別構(gòu)成了CV...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：迷你石墨烯CVD設(shè)備專為石墨烯生產(chǎn)設(shè)計配有高精度質(zhì)量流量計以及薄膜真空規(guī)。迷你石墨烯CVD設(shè)備同時設(shè)備配有可燃?xì)怏w檢測裝置，聯(lián)動出氣口電磁閥，一旦出現(xiàn)...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本產(chǎn)品為PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD設(shè)備。PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD設(shè)備十分適合在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)對粉末材料用CVD方法進行包裹...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：1500℃單溫區(qū)3路質(zhì)量流量計高真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：1200℃三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度，該管式爐可以...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：該套CVD系統(tǒng)主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測量和等離子發(fā)生器四大部分構(gòu)成?？梢詽M足日常的大多數(shù)CVD實驗和各種科研要求。該CVD系統(tǒng)是材料制備過程...