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1400℃真空/氣氛管式爐CVD系統(tǒng)（CVD-TF） 詳細(xì)摘要： 此CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。優(yōu)點(diǎn)爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2020-09-25 參考價(jià)： 面議 在線留言
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天津市泰斯特儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： 此CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。優(yōu)點(diǎn)爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2020-09-25 參考價(jià)： 面議 在線留言