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南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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Marangoni干燥 Marangoni馬蘭戈尼干燥是基于 Marangoni 效應(yīng)發(fā)展起來(lái)的干燥技術(shù)
Marangoni 干燥 Marangoni 馬蘭戈尼干燥是基于 Marangoni 效應(yīng)發(fā)展起來(lái)的干燥技術(shù)。典型的 Marangoni 干燥過(guò)程如圖 4 所示。晶片進(jìn)入干燥系統(tǒng)后,在水槽內(nèi)溢流。由氮?dú)鈹y帶 IPA 氣體充滿系統(tǒng),在水面上形成 IPA 氣體環(huán)境。隨后晶片與水面緩慢脫離(可通過(guò)晶片提拉上升或緩慢排水兩種方式實(shí)現(xiàn)) 由于 IPA 的表面張力比水小得多(25 ℃下,IPA 表面張力為 20.9×10-3 N/m;水的表面張力為 72.8×10-3 N/m),所以會(huì)在坡?tīng)钏鞅韺有纬杀砻鎻埩μ荻?,產(chǎn)生 Marangoni 對(duì)流,水被“吸回"水面,如下圖所示 雖然同樣是 IPA 干燥,但是 Marangoni 干燥與 IPA Vapor 干燥有本質(zhì)的不同,前者是通過(guò)表面張力梯度將水拉回水面,后者則是靠水的蒸發(fā)。 相比于IPA Vapor 干燥 ,Marangoni 干燥IPA 用量很少,且能夠克服深窄溝渠的脫水困難,比較適合直徑 150 mm ( 6 英寸) 以上晶片的干燥。Marangoni 干燥存在的問(wèn)題是晶片易出現(xiàn)水痕缺陷,晶片與晶舟接觸處、晶片下方是常見(jiàn)的水痕區(qū)域 。為消除水痕缺陷,這類設(shè)備中一般配備簡(jiǎn)易晶舟,以減少晶片與晶舟的接觸面積,另外,采用溫水浴、超聲波震蕩 IPA Bub- bler 和變速提拉等也是常用的消除水痕缺陷的手段。 Marangoni 干燥(馬蘭戈尼干燥)受多種因素影響,如晶片的提拉速度,IPA/N2 流量和排風(fēng)的設(shè)置等,因此此種方法技術(shù)難度較高。 作為濕制程設(shè)備制造商,南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司對(duì)干燥系統(tǒng)有豐富的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和產(chǎn)線使用驗(yàn)證,為硅片的清洗干燥提供有效的保障。 化學(xué)品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設(shè)備(RCA清洗機(jī)、去膠機(jī)、外延片清洗機(jī)、酸堿腐蝕機(jī)、顯影機(jī)等)以及干燥設(shè)備(馬蘭戈尼干燥機(jī)Marangoni、單腔甩干機(jī)、雙腔甩干機(jī)),.
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