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旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺-CSE

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更新時間：2025-02-13 08:45:14瀏覽次數(shù)：104次

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南通華林科納半導體設備有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：66條

所在地區(qū)：江蘇南通市

聯(lián)系人：嚴先生（市場部經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點，在6＂（150mm）晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成，一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導線電刷、Ｎ２保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體，二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔

詳細介紹

旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺

結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應用要求等特點，在6＂（150mm）晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個部分組成，一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導線電刷、Ｎ２保護單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體，二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。

傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下：

從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應用分析可以看出，采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中，陰極的旋轉(zhuǎn)運動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決，從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式，可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生"氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射，實現(xiàn)攪拌功能，消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。

傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術、工藝優(yōu)勢

斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)

本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu)，鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行，可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進行相關模擬、仿真和驗證，鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu)，可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點可使電鍍液的用量減至最少程度。

南通華林科納采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理，由于結(jié)構(gòu)上的特點，該方法經(jīng)實驗驗證具有：①結(jié)構(gòu)簡單；②工藝參數(shù)控制容易；③有利氣泡的消除；④鍍制均勻性得到提高；⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝，同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng)，目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應用，產(chǎn)品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。

實現(xiàn)的主要工藝指標：晶圓直徑6寸（可實現(xiàn)2″～4″ （50～100mm）方片鍍制）；凸點高度一致性可達到3.4％以下（以6寸圓片為準）。

設備名稱	南通華林科納-旋轉(zhuǎn)噴鍍臺
工藝類型：	電鍍：AU、CU、SN
應用：	半導體/MEMS/LED等微電子領域設計和制造的）
基本描述：	根據(jù)客戶要求，在設備中設置相應電鍍工位及清洗活化工位。其設備特點如下：適應多尺寸樣片的電鍍。適合研發(fā)和批量生產(chǎn)。單元化和人性化設計，提供設備使用的靈活性。從設計到材料和加工來保證設備的質(zhì)量和可靠性。
設備制造商	南通華林科納半導體設備有限公司；