干燥設(shè)備 粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 過(guò)濾分離設(shè)備 過(guò)濾材料 滅菌設(shè)備 萃取設(shè)備 貯存設(shè)備 傳熱設(shè)備 鍋爐 塔設(shè)備 結(jié)晶設(shè)備 其它制藥設(shè)備
南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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品 牌
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所 在 地南通市
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更新時(shí)間:2025-02-13 08:18:54瀏覽次數(shù):144次
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晶片清洗機(jī)設(shè)備名稱:晶片清洗機(jī)-華林科納清洗對(duì)象:本設(shè)備適用于2″~8″晶片清洗
晶片清洗機(jī) 設(shè)備名稱:晶片清洗機(jī)-華林科納 清洗對(duì)象:本設(shè)備適用于2″~8″晶片清洗。 ⑴超聲清洗,加熱清洗為單槽定時(shí)控制,到時(shí)給予結(jié)束提示音。 ⑵工藝過(guò)程:上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→ 下 料 本設(shè)備為柜體式,操作面帶有透明門(mén)窗。 ⑴槽體材料為德國(guó)進(jìn)口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德國(guó)磁白色PP板,外型美觀實(shí)用。 ⑵設(shè)備超聲,加熱清洗時(shí)間由定時(shí)器控制。 ⑶加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器。 ⑷每個(gè)清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動(dòng)方式。 ⑸配有可調(diào)節(jié)式的排風(fēng)裝置。 ⑹配有美國(guó)進(jìn)口氮?dú)鈬姌尅? ⑺電控部分采用密封保護(hù)方式配有緊急停機(jī)及報(bào)警裝置。 半導(dǎo)體設(shè)備; ,
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主營(yíng)產(chǎn)品:配液機(jī),IPA干燥機(jī),化學(xué)品恒溫機(jī),化學(xué)試劑分裝機(jī),濕法清洗系統(tǒng)、刻蝕系統(tǒng)、CDS系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)
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