干燥設(shè)備 粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 過(guò)濾分離設(shè)備 過(guò)濾材料 滅菌設(shè)備 萃取設(shè)備 貯存設(shè)備 傳熱設(shè)備 鍋爐 塔設(shè)備 結(jié)晶設(shè)備 其它制藥設(shè)備
廣東派勒智能納米科技股份有限公司
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更新時(shí)間:2024-11-25 08:33:34瀏覽次數(shù):449次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 制藥網(wǎng)在線預(yù)研磨系統(tǒng)InNovaZTRL60Pro專業(yè)的在線預(yù)研磨系統(tǒng)解將對(duì)濕法研磨工藝產(chǎn)生革命性影響
在線預(yù)研磨系統(tǒng) InNovaZ® TRL 60 Pro
專業(yè)的在線預(yù)研磨系統(tǒng)解將對(duì)濕法研磨工藝產(chǎn)生革命性影響。
預(yù)研磨系統(tǒng)可完成在標(biāo)準(zhǔn)磨機(jī)中難以處理的粗進(jìn)料顆粒研磨任務(wù)。通常也可用于高強(qiáng)度的分散工藝中,以及批次的或連續(xù)的團(tuán)聚體預(yù)分散工藝。這需要在上游將固體引入液體。連續(xù)制備粗懸浮液的難點(diǎn)是其易發(fā)生沉降,我們可以通過(guò)相應(yīng)的解決辦法,比如提高流速或提高產(chǎn)品吞吐量。
在線預(yù)研磨系統(tǒng)的開發(fā)過(guò)程中,選擇盤式砂磨機(jī)為基礎(chǔ),因?yàn)椋?/span>銷式砂磨機(jī)相比,相同的凈功率輸入產(chǎn)生的研磨腔體積幾乎是其兩倍,這意味著研磨時(shí)更大的接觸面積和更大的冷卻表面積,實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)品吞吐量的關(guān)鍵是高效的分離系統(tǒng),分離系統(tǒng)允許研磨介質(zhì)以低反壓均勻分布在研磨腔中。
派勒新開發(fā)的在線預(yù)研磨系統(tǒng)名為 InNovaZ® TRL Pro,InNovaZ® TRL 60Pro代表了一款腔體約60L的改良的大流量盤片式研磨機(jī),線速度范圍為10-13.5 m/s,產(chǎn)品吞吐量可達(dá)10-45m3/h,所用研磨珠的尺寸在2.0 到 5.0 mm。
在線預(yù)研磨系統(tǒng) InNovaZ® TRL Pro使用特征
InNovaZ® TRL Pro采用了高效的物理方法粉碎難處理的粗料。對(duì)于團(tuán)聚體的預(yù)分散一般是通過(guò)連續(xù)或非連續(xù)的強(qiáng)力分散設(shè)備完成的,InNovaZ® TRL Pro也同樣適用,這需要先將固體粉末和液體混合。連續(xù)制備粗懸浮液的一個(gè)主要挑戰(zhàn)是其高密度引起的易沉淀特性,這可以通過(guò)相應(yīng)的高流量及高產(chǎn)能工藝來(lái)解決。
以下生產(chǎn)過(guò)程中,均可使用 InNovaZ® TRL Pro系統(tǒng)
含結(jié)晶活性材料的配方;
通常使用所謂的膠體磨進(jìn)行預(yù)磨,進(jìn)料細(xì)度在300-500微米µm的配方;
對(duì)于粗糙且易于沉淀在隨后的細(xì)磨過(guò)程中會(huì)導(dǎo)致攪拌砂磨機(jī)分離器裝置堵塞的產(chǎn)品;
批次流量高達(dá) 10-40m3。
新工作原理,通過(guò)創(chuàng)新改進(jìn)預(yù)研磨工藝
我們創(chuàng)造了全新的使用研磨介質(zhì)的預(yù)分散研磨解決方案。該解決方案可為后續(xù)精磨步驟提供均勻的混合質(zhì)量和粒度分布,以革命性方式改變您的濕法研磨工藝。
便于工廠升級(jí),可以隨時(shí)升級(jí)改造
采用緊湊型設(shè)計(jì),占地面積更小,緊湊型可移動(dòng)設(shè)計(jì)有助于升級(jí)現(xiàn)有生產(chǎn)工廠,占用空間通常比傳統(tǒng)解決方案更少。
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主營(yíng)產(chǎn)品:砂磨機(jī),球磨機(jī),均質(zhì)機(jī),分散機(jī),乳化機(jī),脫泡機(jī)
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